Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: CARRIEL, R.C.
Data de Publicação: 2015
Outros Autores: PILLIS, M.F., CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21.
Tipo de documento: Artigo de conferência
Texto Completo: http://repositorio.ipen.br:8080/xmlui/handle/123456789/23448
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title Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício
author CARRIEL, R.C.
author2 PILLIS, M.F.
CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 21.
topic thin films
titanium oxides
substrates
voltametry
publishDate 2015
format conferenceObject
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