Obtencao e caracterizacao de revestimentos compostos de multicamadas TiOsub(2)/TiN

• Autor(a) principal: GONCALVES, ANDRE
• Data de Publicação: 2010
• Tipo de documento: Dissertação
• Título da fonte: Repositório Institucional do IPEN
• Texto Completo: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/9572
• topic: nanostructures; layers; titanium oxides; titanium nitrides; coatings; thin films; computerized simulation

A nanoci??ncia emergiu nos ??ltimos anos como uma das ??reas mais importantes para os futuros desenvolvimentos tecnol??gicos, especialmente na ??rea de dispositivos eletr??nicos. A nanotecnologia tem um car??ter primordialmente interdisciplinar, que engloba conhecimentos de f??sica, qu??mica, engenharias e biologia. Essa tecnologia est?? sendo usada da fabrica????o de microprocessadores, bombas dosadoras de f??rmacos e revestimentos em materiais, entre outras aplica????es. Revestimentos nanocristalinos v??m sendo obtidos por meio da t??cnica MOCVD (deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor), e tem proporcionado a obten????o de filmes de melhor qualidade que os obtidos por CVD convencional ou por m??todos f??sicos. Al??m disso, a t??cnica MOCVD apresenta-se como uma alternativa competitiva porque ?? relativamente barata e mais f??cil de ser implantada, em rela????o aos m??todos de deposi????o f??sica. Neste trabalho foram obtidos revestimentos compostos por multicamadas de TiO2/TiN. Durante o experimento, a abertura e o fechamento das v??lvulas de admiss??o dos gases exige do operador habilidade manual para acionar a v??lvula e controlar o tempo de deposi????o, o que gera possibilidade de erros, implicando diretamente na espessura de cada camada. Assim, a necessidade de diminuir a influ??ncia do operador e poder utilizar intervalos de tempo menores que um minuto para os crescimentos, gerou a oportunidade de criar um programa de computador para gerenciar todo o sistema. Tal programa foi desenvolvido utilizando-se o conceito de M??quina de Estados para o controle de processo e simula????o Hardware in the loop.