Otimização de parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos de filmes finos de PZT

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Araújo,E. B.
Data de Publicação: 2001
Outros Autores: Eiras,J. A.
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Cerâmica (São Paulo. Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132001000100003
Resumo: Este trabalho faz uma síntese de resultados obtidos para filmes finos de PZT processados por diferentes vias com objetivo de otimizar parâmetros estruturais, dielétricos e ferroelétricos. Filmes foram preparados em fornos convencionais e pelo método de tratamento térmico rápido (TTR). Os resultados foram comparados e mostraram que os filmes cristalizados usando TTR apresentaram uma melhor cristalização, comparado com os filmes cristalizados em forno convencional. Em conseqüência, melhores parâmetros dielétricos e ferroelétricos também foram obtidos, chegando a duplicar o valor da polarização remanescente (Pr) e aumentar significativamente a constante dielétrica (épsilon) dos filmes.
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