Simulação computacional de deposição aleatória e deposição balística

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Coimbra, Adolfo Fernandes
Data de Publicação: 2019
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF)
Texto Completo: https://app.uff.br/riuff/handle/1/11202
Resumo: Apresento o trabalho desenvolvido neste último ano, com modelos estatísticos de crescimento de superfície. Foram estudados os modelos de deposição balística e deposição aleatória, para isso, realizamos simulações computacionais. Utilizamos tratamento numérico a partir dos dados recolhidos nas simulações. Analisamos grandezas importante para o entendimento da física envolvida, como: rugosidade, expoentes de efetivos. Obtivemos valores para os parâmetros estudados e comparamo-os com os valores encontrados na literatura
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