Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio

• Autor(a) principal: Silva, Marco Aurélio Medeiros da
• Data de Publicação: 2013
• Outros Autores: Coutinho, Karilany Dantas, Wanderley, Caroline Dantas Vilar, Guerra, Paulo Victor de Azevedo
• Tipo de documento: Artigo
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Institucional da UFRN
• Texto Completo: https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29647
• topic: Limpeza a plasma; Implante dental; Oxidação; Descontaminação de Ti

O tratamento para modificação superficial requer um substrato com alto grau de limpeza, a fim de promover um aumento da energia superficial e melhorar a adesão da camada formada ao substrato. Técnicas que estão em crescente uso possuem geralmente o plasma como fonte energética. Nesse trabalho, utilizou-se o plasma produzido em descarga por cátodo oco, com diferentes atmosferas, a fim de estudar a sua influência na despassivação da superfície de titânio. Foram utilizadas 06 placas de Ti cp (grau II), de tamanho 10 x 10 x 1 mm. Estas amostras foram divididas em três grupos para limpeza a plasma em catodo oco com atmosfera de Ar, H2 e Ar/H2 (50-50%) a pressão em torno de 0,7 mbar e temperatura de 200°C nos tempos de 20 e 60 minutos e seguido uma condição de oxidação a plasma a 500oC por 1 hora, com teor 10 % de O2 numa pressão de 2,2 mbar. Após oxidação as amostras foram submetidas à avaliação através de análise de ângulo de contato pela técnica da gota séssil (molhabilidade), análise por difração de raios-X (DRX) e rugosidade