Construção e caracterização de um equipamento de corrosão por plasma e sua aplicação na corrosão de SiO².

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Seabra, Antonio Carlos
Data de Publicação: 1990
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-082844/
Resumo: Este trabalho apresenta uma metodologia para o projeto e construção de um equipamento de corrosão por plasma na configuração RIE. Um estudo detalhado da técnica de corrosão por plasma foi realizado para permitir a análise detalhada das características das configurações (equipamentos) existentes. Um estudo da corrosão a seco de SiO² crescido termicamente foi realizado utilizando-se cf/sub/4 e cf/sub/4+h/sub/2 como gases de processo para comprovar a viabilidade do equipamento construído. Este estudo foi aplicado na obtenção de espaçadores para estruturas salicide. Os resultados obtidos comprovam a adequação da metodologia de projeto empregada e a viabilidade do equipamento desenvolvido. Suas características encontram-se dentro da faixa encontrada em literatura para equipamentos de concepção semelhante.
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spelling Construção e caracterização de um equipamento de corrosão por plasma e sua aplicação na corrosão de SiO².Design and characterization of a plasma etching system and its application to SiO2 etching.CorrosãoEtchingPlasmaPlasmaEste trabalho apresenta uma metodologia para o projeto e construção de um equipamento de corrosão por plasma na configuração RIE. Um estudo detalhado da técnica de corrosão por plasma foi realizado para permitir a análise detalhada das características das configurações (equipamentos) existentes. Um estudo da corrosão a seco de SiO² crescido termicamente foi realizado utilizando-se cf/sub/4 e cf/sub/4+h/sub/2 como gases de processo para comprovar a viabilidade do equipamento construído. Este estudo foi aplicado na obtenção de espaçadores para estruturas salicide. Os resultados obtidos comprovam a adequação da metodologia de projeto empregada e a viabilidade do equipamento desenvolvido. Suas características encontram-se dentro da faixa encontrada em literatura para equipamentos de concepção semelhante.This work present a methodology for the design and construction of a RIE plasma etching equipment. A detailed study of the plasma etching technique was done to allow a detailed analysis of the known plasma etching configurations. A study of the plasma etching of thermal SiO2 in CF4 and CF4+H2 plasma was done to endorse the viability of the equipment built. This study was applied in a test-chip in order to get SALICIDEs spacers. The main topics of this work are: a) Study of the plasma etching technique and its configurations; b) Study of the main mechanics involved in the SiO2 plasma etching and the methodology for obtaining SALICIDEs spacers; c) Design of the gas admission system considering the reactant gas consumption during the plasma etching; d) Design of the vacuum system for CF4 carefully considering the losses involved; e) Characterization of the equipment built, with the following main results : i) Preliminary characterization of the equipment: - Effective pump speed in the chamber greater than (2,1±0,6) 1/s at a pressure of 13,3Pa of CF4; - Non-uniformity of etching in argon less than 5% in the range studied; - Self-bias potencial and plasma potencial ratio for argon greater than 3:1 in the range studied; - Electrode temperature during the process less than (30±1) °C in the range studied; ii) Characterization of the SiO2 plasma etching: - Etch rate of (1,17±0,03)nm/s for the operation point chosen in CF4 (13.3Pa, 100W, 21.4sccm); - Non-uniformity of etching less than 3% for the operation point chosen in CF4 (50mm wafers); - Selectivities of 7:1 and 25:1 for SiO2:Si and Si02:AZ1350J respectively (when using a CF4+22.5%H2 mixture at 13,3Pa, 200W and 21.4sccm total flow); - Degree of anisotropy dependant on the mask profile for CF4 processing and equal to 0.9 for CF4+22.5%H2 processing. The results shown endorse the designs methodology employed and the feasibility of the developed equipment.Its characteristics are in between those reported in literature for equipments of similar conception.Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USPZuffo, Joao AntonioSeabra, Antonio Carlos1990-03-27info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-082844/reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USPLiberar o conteúdo para acesso público.info:eu-repo/semantics/openAccesspor2022-05-24T11:33:30Zoai:teses.usp.br:tde-24052022-082844Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212022-05-24T11:33:30Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
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