Propriedades Ópticas e Mecânicas de Filmes Finos a-C:H:Si:O:N e a-C:H:Si:F:N Produzidos por Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Juliana Feletto Silveira Costa Lopes
Data de Publicação: 2021
Tipo de documento: Tese
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
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