Teores de fenólicos em raizes de milho sob toxidez de alumínio.

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: RAPOSEIRAS, R.
Data de Publicação: 2005
Outros Autores: SOUZA, I. R. P. de, ALVES, V. M. C., MAGALHAES, P. C., SCHAFFERT, R. E.
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da EMBRAPA (Repository Open Access to Scientific Information from EMBRAPA - Alice)
Texto Completo: http://www.alice.cnptia.embrapa.br/alice/handle/doc/489533
Resumo: Os mecanismos de tolerância ao Al propostos na literatura podem ser classificados em mecanismos de exclusão e mecanismos de tolerância interna. Os mecanismos de exclusão previnem o Al de atravessar a membrana plasmática e penetrar no simplasto. Os mecanismos de tolerância interna imobilizam, compartimentalizam ou detoxificam o Al que penetrou no simplasto. Tem sido sugerido que compostos fenólicos atuam em ambos os mecanismos, devido à sua capacidade de complexar metais como o alumínio e também por agirem como um forte antioxidante em resposta a estresses abióticos. O objetivo deste trabalho foi identificar diferenças no teor de ácidos fenólicos solúveis totais e de ácidos fenólicos (ácido ferúlico, 5-5?diferúlico e para-cumárico), ligados à parede celular de raízes de milho entre linhagens contrastantes quanto à tolerância ao alumínio, Cateto 237 (tolerante) e L53 (sensível), quando expostos à toxidez desse elemento. As plântulas foram cultivadas em solução nutritiva completa, na ausência (período de 0 h) e na presença de Al (AlK(SO4)2), na atividade de 39 mM (períodos de 12, 24, 48 e 72 h). Fenólicos solúveis totais foram analisados pelo método Azul da Prússia, enquanto os fenólicos liberados da parede celular foram analisados através de Cromatografia Líquida de Alta Eficiência. Os resultados obtidos sugerem que os fenólicos possam ter participação nos mecanismos de tolerância ao alumínio em milho, considerando-se que a linhagem Cateto 237-tolerante foi capaz de manter a concentração de fenólicos solúveis totais e aumentou as concentrações dos ácidos p-cumárico, ferúlico e 5-5?diferúlico, na parede celular, sob toxidez de Al.
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