CARRIEL, R., PILLIS, M., & CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS, 2. (2015). Comportamento voltamétrico de filmes finos de TiOsub(2) depositados sobre silício.
Referência de acordo com a norma ChicagoCARRIEL, R.C., M.F PILLIS, e 21 CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS. Comportamento Voltamétrico De Filmes Finos De TiOsub(2) Depositados Sobre Silício. 2015.
Referência de acordo com a norma MLACARRIEL, R.C., M.F PILLIS, e 21 CONGRESSO BRASILEIRO DE ENGENHARIA E CIÊNCIA DOS MATERIAIS. Comportamento Voltamétrico De Filmes Finos De TiOsub(2) Depositados Sobre Silício. 2015.
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