Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Krug, Cristiano
Data de Publicação: 1998
Outros Autores: Andrade, Jones de, Salgado, Tania Denise Miskinis, Stedile, Fernanda Chiarello, Baumvol, Israel Jacob Rabin
Tipo de documento: Artigo de conferência
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/88299
Resumo: 014
id UFRGS-2_f10160b12297600ecc6236ccdd764d9b
oai_identifier_str oai:www.lume.ufrgs.br:10183/88299
network_acronym_str UFRGS-2
network_name_str Repositório Institucional da UFRGS
repository_id_str
spelling Krug, CristianoAndrade, Jones deSalgado, Tania Denise MiskinisStedile, Fernanda ChiarelloBaumvol, Israel Jacob RabinSalão de Iniciação Científica (10. : 1998 set. 19-23 : UFRGS, Porto Alegre, RS).2014-03-12T01:49:57Z1998http://hdl.handle.net/10183/88299000223993application/pdfporSalão de Iniciação Científica (10. : 1998 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1998.Física Experimental ICiências exatas e da terraFilmes finos dieletricosImplantação de íonsOxinitreto de silicioPreparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energiasinfo:eu-repo/semantics/conferenceObjectinfo:eu-repo/semantics/otherinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion014info:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRGSinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)instacron:UFRGSTEXT000223993.pdf.txt000223993.pdf.txtExtracted Texttext/plain1754http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/2/000223993.pdf.txtaf96f291b033a865297a7a35529cb542MD52ORIGINAL000223993.pdf000223993.pdfResumoapplication/pdf26856http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/1/000223993.pdfec97d7ff7aa8baeee51c2ccc461f0615MD51THUMBNAIL000223993.pdf.jpg000223993.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1069http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/3/000223993.pdf.jpg50580c03ac2d220634a96597cdbcdf98MD5310183/882992023-06-16 03:31:52.014505oai:www.lume.ufrgs.br:10183/88299Repositório de PublicaçõesPUBhttps://lume.ufrgs.br/oai/requestopendoar:2023-06-16T06:31:52Repositório Institucional da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
title Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
spellingShingle Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
Krug, Cristiano
Ciências exatas e da terra
Filmes finos dieletricos
Implantação de íons
Oxinitreto de silicio
Física Experimental I
title_short Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
title_full Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
title_fullStr Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
title_full_unstemmed Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
title_sort Preparação de filmes ultrafinos de oxinitreto de silício por implantação de nitrogênio a baixas energias
author Krug, Cristiano
author_facet Krug, Cristiano
Andrade, Jones de
Salgado, Tania Denise Miskinis
Stedile, Fernanda Chiarello
Baumvol, Israel Jacob Rabin
author_role author
author2 Andrade, Jones de
Salgado, Tania Denise Miskinis
Stedile, Fernanda Chiarello
Baumvol, Israel Jacob Rabin
author2_role author
author
author
author
dc.contributor.event.pt_BR.fl_str_mv Salão de Iniciação Científica (10. : 1998 set. 19-23 : UFRGS, Porto Alegre, RS).
dc.contributor.author.fl_str_mv Krug, Cristiano
Andrade, Jones de
Salgado, Tania Denise Miskinis
Stedile, Fernanda Chiarello
Baumvol, Israel Jacob Rabin
dc.subject.cnpq.fl_str_mv Ciências exatas e da terra
topic Ciências exatas e da terra
Filmes finos dieletricos
Implantação de íons
Oxinitreto de silicio
Física Experimental I
dc.subject.por.fl_str_mv Filmes finos dieletricos
Implantação de íons
Oxinitreto de silicio
dc.subject.session.pt_BR.fl_str_mv Física Experimental I
description 014
publishDate 1998
dc.date.issued.fl_str_mv 1998
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2014-03-12T01:49:57Z
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/conferenceObject
info:eu-repo/semantics/other
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
format conferenceObject
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/10183/88299
dc.identifier.nrb.pt_BR.fl_str_mv 000223993
url http://hdl.handle.net/10183/88299
identifier_str_mv 000223993
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.ispartof.pt_BR.fl_str_mv Salão de Iniciação Científica (10. : 1998 : Porto Alegre). Livro de resumos. Porto Alegre : UFRGS, 1998.
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFRGS
instname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
instname_str Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron_str UFRGS
institution UFRGS
reponame_str Repositório Institucional da UFRGS
collection Repositório Institucional da UFRGS
bitstream.url.fl_str_mv http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/2/000223993.pdf.txt
http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/1/000223993.pdf
http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/88299/3/000223993.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv af96f291b033a865297a7a35529cb542
ec97d7ff7aa8baeee51c2ccc461f0615
50580c03ac2d220634a96597cdbcdf98
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1798487230010884096

Registros relacionados