Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Rodrigues, André Delfino
Data de Publicação: 2020
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/236723
Resumo: Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de tungstênio dopados com diferentes concentrações de molibdênio. Os filmes foram obtidos por DC magnetron sputtering de um alvo de tungstênio em substratos de silício e posteriormente foram dopados através do método dip coating, em soluções contendo o precursor cloreto de molibdênio(V) em metanol. Os filmes dopados foram aquecidos a 60 °C durante 75 minutos e, em seguida, a 110 °C durante 60 minutos, para eliminação do solvente e conversão em óxidos; os filmes foram submetidos a um tratamento térmico subsequente, de 25 °C a 550 °C com velocidade de aquecimento de 5,8 °C/min, e mantidos na temperatura máxima durante 2 horas, para o desenvolvimento da estrutura cristalina. A estrutura e a morfologia dos filmes foram caracterizadas por reflectância de raios X (XRR), espectrometria de retroespalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), difração de raios X (DRX), espectroscopia Raman e microscopia eletrônica de varredura (MEV), mostrando que existe uma significativa modificação morfológica e estrutural nesses sistemas. A fase WO2,72 foi identificada em todos os filmes, confirmando a presença de íons de tungstênio nos estados de oxidação +5 e +6. Os íons de molibdênio estão presentes na superfície dos filmes nos estados de oxidação +6, +5 e +4, com exceção do filme dopado com 11,8 mmol·L-1 de molibdênio, onde apenas os estados de oxidação +6 e +5 foram identificados. A inserção desses íons não causou modificações significativas na estrutura cristalina do óxido de tungstênio. Em filmes dopados com baixas concentrações de molibdênio, é possível observar superfícies homogêneas. A dopagem realizada com concentração de molibdênio de 118 mmol·L-1, no entanto, provocou modificações muito mais pronunciadas, como a separação de fases e a formação de estruturas em formato de discos e bastões.
id UFRGS-2_fec96e2d0670cdea08bf9841f1927c6d
oai_identifier_str oai:www.lume.ufrgs.br:10183/236723
network_acronym_str UFRGS-2
network_name_str Repositório Institucional da UFRGS
repository_id_str
spelling Rodrigues, André DelfinoGarcia, Irene Teresinha Santos2022-04-07T04:48:22Z2020http://hdl.handle.net/10183/236723001120530Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de tungstênio dopados com diferentes concentrações de molibdênio. Os filmes foram obtidos por DC magnetron sputtering de um alvo de tungstênio em substratos de silício e posteriormente foram dopados através do método dip coating, em soluções contendo o precursor cloreto de molibdênio(V) em metanol. Os filmes dopados foram aquecidos a 60 °C durante 75 minutos e, em seguida, a 110 °C durante 60 minutos, para eliminação do solvente e conversão em óxidos; os filmes foram submetidos a um tratamento térmico subsequente, de 25 °C a 550 °C com velocidade de aquecimento de 5,8 °C/min, e mantidos na temperatura máxima durante 2 horas, para o desenvolvimento da estrutura cristalina. A estrutura e a morfologia dos filmes foram caracterizadas por reflectância de raios X (XRR), espectrometria de retroespalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), difração de raios X (DRX), espectroscopia Raman e microscopia eletrônica de varredura (MEV), mostrando que existe uma significativa modificação morfológica e estrutural nesses sistemas. A fase WO2,72 foi identificada em todos os filmes, confirmando a presença de íons de tungstênio nos estados de oxidação +5 e +6. Os íons de molibdênio estão presentes na superfície dos filmes nos estados de oxidação +6, +5 e +4, com exceção do filme dopado com 11,8 mmol·L-1 de molibdênio, onde apenas os estados de oxidação +6 e +5 foram identificados. A inserção desses íons não causou modificações significativas na estrutura cristalina do óxido de tungstênio. Em filmes dopados com baixas concentrações de molibdênio, é possível observar superfícies homogêneas. A dopagem realizada com concentração de molibdênio de 118 mmol·L-1, no entanto, provocou modificações muito mais pronunciadas, como a separação de fases e a formação de estruturas em formato de discos e bastões.In this work, tungsten oxide thin films doped with different molybdenum concentrations were studied. The films were obtained by sputtering a tungsten target on silicon substrates and were subsequently doped through dip coating method, in solutions containing the precursor molybdenum(V) chloride in methanol. The doped films were heated at 60 °C for 75 minutes and, after that, at 110 °C for 60 minutes, to eliminate the solvent and to convert the material into oxides; the films were submitted to a subsequent thermal treatment, from 25 °C to 550 °C, with heating rate of 5,8 °C/min, and kept at maximum temperature for 2 hours, for the development of crystalline structure. The structure and the morphology of the films were characterized by X-ray reflectivity (XRR), Rutherford backscattering spectrometry (RBS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), Raman spectroscopy and scanning electron microscopy (SEM), revealing that there is a significant morphological and structural change in these systems. The phase WO2,72 was identified in all films, confirming the presence of tungsten ions in the oxidation states +5 and +6. Molybdenum ions are present on the surface of the films in the oxidation states +6, +5 and +4, except in the film doped with 11,8 mmol·L-1 of molybdenum, in which only the oxidation states +6 and +5 were identified. Insertion of these ions did not cause significant changes in the crystalline structure of tungsten oxide. In films doped with low concentrations of molybdenum, homogeneous surfaces were observed. Doping with 118 mmol·L-1 of molybdenum, however, caused much more pronounced changes, such as phase separation and formation of disklike and rod-like structures.application/pdfporFilmes finosÓxido de tungstênioMolibdênioDopagemThin filmsTungsten oxideMolybdenumDopingDip coatingSputteringStructureMorphologyObtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênioinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisUniversidade Federal do Rio Grande do SulInstituto de QuímicaPorto Alegre, BR-RS2020Química: Bachareladograduaçãoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRGSinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)instacron:UFRGSTEXT001120530.pdf.txt001120530.pdf.txtExtracted Texttext/plain107270http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/236723/2/001120530.pdf.txt57d21a2f8c1fbf6fa5c5e6e28b980e34MD52ORIGINAL001120530.pdfTexto completoapplication/pdf6429143http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/236723/1/001120530.pdf715793dea4bf2daa30e8c016410a09a2MD5110183/2367232022-04-20 04:49:47.522922oai:www.lume.ufrgs.br:10183/236723Repositório de PublicaçõesPUBhttps://lume.ufrgs.br/oai/requestopendoar:2022-04-20T07:49:47Repositório Institucional da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
title Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
spellingShingle Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
Rodrigues, André Delfino
Filmes finos
Óxido de tungstênio
Molibdênio
Dopagem
Thin films
Tungsten oxide
Molybdenum
Doping
Dip coating
Sputtering
Structure
Morphology
title_short Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
title_full Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
title_fullStr Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
title_full_unstemmed Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
title_sort Obtenção e caracterização de filmes nanoestruturados de Óxido de tungstênio dopados com molibdênio
author Rodrigues, André Delfino
author_facet Rodrigues, André Delfino
author_role author
dc.contributor.author.fl_str_mv Rodrigues, André Delfino
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Garcia, Irene Teresinha Santos
contributor_str_mv Garcia, Irene Teresinha Santos
dc.subject.por.fl_str_mv Filmes finos
Óxido de tungstênio
Molibdênio
Dopagem
topic Filmes finos
Óxido de tungstênio
Molibdênio
Dopagem
Thin films
Tungsten oxide
Molybdenum
Doping
Dip coating
Sputtering
Structure
Morphology
dc.subject.eng.fl_str_mv Thin films
Tungsten oxide
Molybdenum
Doping
Dip coating
Sputtering
Structure
Morphology
description Neste trabalho foram estudados filmes finos de óxido de tungstênio dopados com diferentes concentrações de molibdênio. Os filmes foram obtidos por DC magnetron sputtering de um alvo de tungstênio em substratos de silício e posteriormente foram dopados através do método dip coating, em soluções contendo o precursor cloreto de molibdênio(V) em metanol. Os filmes dopados foram aquecidos a 60 °C durante 75 minutos e, em seguida, a 110 °C durante 60 minutos, para eliminação do solvente e conversão em óxidos; os filmes foram submetidos a um tratamento térmico subsequente, de 25 °C a 550 °C com velocidade de aquecimento de 5,8 °C/min, e mantidos na temperatura máxima durante 2 horas, para o desenvolvimento da estrutura cristalina. A estrutura e a morfologia dos filmes foram caracterizadas por reflectância de raios X (XRR), espectrometria de retroespalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia de fotoelétrons de raios X (XPS), difração de raios X (DRX), espectroscopia Raman e microscopia eletrônica de varredura (MEV), mostrando que existe uma significativa modificação morfológica e estrutural nesses sistemas. A fase WO2,72 foi identificada em todos os filmes, confirmando a presença de íons de tungstênio nos estados de oxidação +5 e +6. Os íons de molibdênio estão presentes na superfície dos filmes nos estados de oxidação +6, +5 e +4, com exceção do filme dopado com 11,8 mmol·L-1 de molibdênio, onde apenas os estados de oxidação +6 e +5 foram identificados. A inserção desses íons não causou modificações significativas na estrutura cristalina do óxido de tungstênio. Em filmes dopados com baixas concentrações de molibdênio, é possível observar superfícies homogêneas. A dopagem realizada com concentração de molibdênio de 118 mmol·L-1, no entanto, provocou modificações muito mais pronunciadas, como a separação de fases e a formação de estruturas em formato de discos e bastões.
publishDate 2020
dc.date.issued.fl_str_mv 2020
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2022-04-07T04:48:22Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
format bachelorThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://hdl.handle.net/10183/236723
dc.identifier.nrb.pt_BR.fl_str_mv 001120530
url http://hdl.handle.net/10183/236723
identifier_str_mv 001120530
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFRGS
instname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron:UFRGS
instname_str Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
instacron_str UFRGS
institution UFRGS
reponame_str Repositório Institucional da UFRGS
collection Repositório Institucional da UFRGS
bitstream.url.fl_str_mv http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/236723/2/001120530.pdf.txt
http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/236723/1/001120530.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv 57d21a2f8c1fbf6fa5c5e6e28b980e34
715793dea4bf2daa30e8c016410a09a2
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1798486985945382912