Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de
Data de Publicação: 1988
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFU
Texto Completo: https://repositorio.ufu.br/handle/123456789/26815
http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
Resumo: 0 objetivo deste trabalho é o desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão, usando matéria prima nacional. Esta técnica tem sido pouco usada no Brasil devido a pro blemas de importação. Para a obtenção destes materiais, usou- se quatro tipos de resina epoxi e quatro tipos de endurecedo- res à base de aminas, todos produzidos pela CIBA GEIGY - Quími ca S.A. do Brasil. Combinando os componentes básicos em propor ções variadas obteve-se várias composições, das quais foram se lecionadas as duas melhores, baseado nas propriedades requeri- / das para uso do material em fotoelasticidade de reflexão. Ne_s te trabalho é descrito o procedimento de obtenção e utilização dos materiais, bem como a determinação das propriedades necessárias para o estudo das tensões/deformações usando a técnica da fotoelasticidade de reflexão. A partir da proposta inicial do trabalho, chegou-se também a um material para uso em fotoelasticidade de transmissão bidimensional, com características similares aos materiais importados.
id UFU_b57c41a0a964544504960c20369854ff
oai_identifier_str oai:repositorio.ufu.br:123456789/26815
network_acronym_str UFU
network_name_str Repositório Institucional da UFU
repository_id_str
spelling 2019-08-26T19:18:51Z2019-08-26T19:18:51Z1988OLIVEIRA,Sonia Aparecida Goulart de. Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão. 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Mecânica) – 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em História) - Universidade Federal de Uberlândia, Uberlândia, 2018. Disponível em: http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1https://repositorio.ufu.br/handle/123456789/26815http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.10 objetivo deste trabalho é o desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão, usando matéria prima nacional. Esta técnica tem sido pouco usada no Brasil devido a pro blemas de importação. Para a obtenção destes materiais, usou- se quatro tipos de resina epoxi e quatro tipos de endurecedo- res à base de aminas, todos produzidos pela CIBA GEIGY - Quími ca S.A. do Brasil. Combinando os componentes básicos em propor ções variadas obteve-se várias composições, das quais foram se lecionadas as duas melhores, baseado nas propriedades requeri- / das para uso do material em fotoelasticidade de reflexão. Ne_s te trabalho é descrito o procedimento de obtenção e utilização dos materiais, bem como a determinação das propriedades necessárias para o estudo das tensões/deformações usando a técnica da fotoelasticidade de reflexão. A partir da proposta inicial do trabalho, chegou-se também a um material para uso em fotoelasticidade de transmissão bidimensional, com características similares aos materiais importados.This work deal with the development of a material for the photoelastic coating technique, using Brazilian raw materiais. This technique has not been largely used in Brazil owing to difficulties with the importantion of the photoelastic materiais. To obtain the materiais it was used four kinds of epoxy resins and four kinds of amines curing agents as a hardener, all produced by CIBA GEIGY - Química S.A. do Brazil. By the combination of the basic components in different amount, sev- eral composition were obtained. Amoung these, the two ones that showed the best properties for photoelastic coating were chosen. This work describes interily the procedure used to obtain the materiais, the determination of the properties required to ap- ply the technique and shows the general application. During the development of this work, it was also obtained and presented in a particular chapter a new material for bidimensional photo- elasticity, with properties similar to the imported materiais.Dissertação (Mestrado)porUniversidade Federal de UberlândiaPrograma de Pós-graduação em Engenharia MecânicaBrasilhttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/info:eu-repo/semantics/openAccessCNPQ::ENGENHARIASFotoelasticidade de reflexãoMateriais fotoelãsticosAnálise de tensõesFotoelasticidade bidimensionalPhotoelastic coatingPhotoelastic materiaisStress/strain analysisBidimensional photoelasticítyDeformacõesDesenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexãoDevelopment of materials for reflection photoelasticityinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisGomide, Henner Albertohttp://lattes.cnpq.br/4609718752173134Smith Neto, PerrinBack, NelsonCullen, João Amos Toledohttp://lattes.cnpq.br/3818193084898242Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de93reponame:Repositório Institucional da UFUinstname:Universidade Federal de Uberlândia (UFU)instacron:UFUORIGINALDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdfDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdfapplication/pdf4971580https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/1/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf4dbd05d96938f474b8c30543a3e5ba38MD51CC-LICENSElicense_rdflicense_rdfapplication/rdf+xml; charset=utf-8811https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/2/license_rdf9868ccc48a14c8d591352b6eaf7f6239MD52LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81792https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/3/license.txt48ded82ce41b8d2426af12aed6b3cbf3MD53TEXTDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.txtDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.txtExtracted texttext/plain91027https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/4/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.txt6f1858d6d5ea610d15b3e2e351d200e0MD54THUMBNAILDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.jpgDesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1522https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/5/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.jpga79300949cab9641ab394e18fe666cc3MD55123456789/268152019-08-27 03:07:16.841oai:repositorio.ufu.br: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Repositório InstitucionalONGhttp://repositorio.ufu.br/oai/requestdiinf@dirbi.ufu.bropendoar:2024-04-26T15:20:32.231972Repositório Institucional da UFU - Universidade Federal de Uberlândia (UFU)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
dc.title.alternative.pt_BR.fl_str_mv Development of materials for reflection photoelasticity
title Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
spellingShingle Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de
CNPQ::ENGENHARIAS
Fotoelasticidade de reflexão
Materiais fotoelãsticos
Análise de tensões
Fotoelasticidade bidimensional
Photoelastic coating
Photoelastic materiais
Stress/strain analysis
Bidimensional photoelasticíty
Deformacões
title_short Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
title_full Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
title_fullStr Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
title_full_unstemmed Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
title_sort Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão
author Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de
author_facet Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de
author_role author
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Gomide, Henner Alberto
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/4609718752173134
dc.contributor.referee1.fl_str_mv Smith Neto, Perrin
dc.contributor.referee2.fl_str_mv Back, Nelson
dc.contributor.referee3.fl_str_mv Cullen, João Amos Toledo
dc.contributor.authorLattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/3818193084898242
dc.contributor.author.fl_str_mv Oliveira, Sonia Aparecida Goulart de
contributor_str_mv Gomide, Henner Alberto
Smith Neto, Perrin
Back, Nelson
Cullen, João Amos Toledo
dc.subject.cnpq.fl_str_mv CNPQ::ENGENHARIAS
topic CNPQ::ENGENHARIAS
Fotoelasticidade de reflexão
Materiais fotoelãsticos
Análise de tensões
Fotoelasticidade bidimensional
Photoelastic coating
Photoelastic materiais
Stress/strain analysis
Bidimensional photoelasticíty
Deformacões
dc.subject.por.fl_str_mv Fotoelasticidade de reflexão
Materiais fotoelãsticos
Análise de tensões
Fotoelasticidade bidimensional
Photoelastic coating
Photoelastic materiais
Stress/strain analysis
Bidimensional photoelasticíty
Deformacões
description 0 objetivo deste trabalho é o desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão, usando matéria prima nacional. Esta técnica tem sido pouco usada no Brasil devido a pro blemas de importação. Para a obtenção destes materiais, usou- se quatro tipos de resina epoxi e quatro tipos de endurecedo- res à base de aminas, todos produzidos pela CIBA GEIGY - Quími ca S.A. do Brasil. Combinando os componentes básicos em propor ções variadas obteve-se várias composições, das quais foram se lecionadas as duas melhores, baseado nas propriedades requeri- / das para uso do material em fotoelasticidade de reflexão. Ne_s te trabalho é descrito o procedimento de obtenção e utilização dos materiais, bem como a determinação das propriedades necessárias para o estudo das tensões/deformações usando a técnica da fotoelasticidade de reflexão. A partir da proposta inicial do trabalho, chegou-se também a um material para uso em fotoelasticidade de transmissão bidimensional, com características similares aos materiais importados.
publishDate 1988
dc.date.issued.fl_str_mv 1988
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2019-08-26T19:18:51Z
dc.date.available.fl_str_mv 2019-08-26T19:18:51Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.citation.fl_str_mv OLIVEIRA,Sonia Aparecida Goulart de. Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão. 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Mecânica) – 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em História) - Universidade Federal de Uberlândia, Uberlândia, 2018. Disponível em: http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://repositorio.ufu.br/handle/123456789/26815
dc.identifier.doi.pt_BR.fl_str_mv http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
identifier_str_mv OLIVEIRA,Sonia Aparecida Goulart de. Desenvolvimento de materiais para fotoelasticidade de reflexão. 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Mecânica) – 1988. 93 f. Dissertação (Mestrado em História) - Universidade Federal de Uberlândia, Uberlândia, 2018. Disponível em: http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
url https://repositorio.ufu.br/handle/123456789/26815
http://dx.doi.org/10.14393/ufu.di.1988.1
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/
info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv Universidade Federal de Uberlândia
dc.publisher.program.fl_str_mv Programa de Pós-graduação em Engenharia Mecânica
dc.publisher.country.fl_str_mv Brasil
publisher.none.fl_str_mv Universidade Federal de Uberlândia
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFU
instname:Universidade Federal de Uberlândia (UFU)
instacron:UFU
instname_str Universidade Federal de Uberlândia (UFU)
instacron_str UFU
institution UFU
reponame_str Repositório Institucional da UFU
collection Repositório Institucional da UFU
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/1/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf
https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/2/license_rdf
https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/3/license.txt
https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/4/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.txt
https://repositorio.ufu.br/bitstream/123456789/26815/5/DesenvolvimentoMateriaisFotoelasticidade.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv 4dbd05d96938f474b8c30543a3e5ba38
9868ccc48a14c8d591352b6eaf7f6239
48ded82ce41b8d2426af12aed6b3cbf3
6f1858d6d5ea610d15b3e2e351d200e0
a79300949cab9641ab394e18fe666cc3
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFU - Universidade Federal de Uberlândia (UFU)
repository.mail.fl_str_mv diinf@dirbi.ufu.br
_version_ 1797425668496031744

Registros relacionados