Ativação de filme de hexametildisiloxano com o uso de plasma de baixa pressão e radiação UV

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: García Pérez, Tsai
Data de Publicação: 2007
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1605462
Resumo: Orientador: Edison Bittencourt
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As tecnologias de modificação superficial com uso de plasma e radiação ultravioleta apresentam-se como alternativas aos tratamentos convencionais em razão de sua pouca geração de resíduos, à fácil manipulação e à possibilidade de tratar superficies de diferentes geometrias. O presente trabalho estuda os processos de ativação de camadas de Hexametildisiloxano (HMDSO), com o uso de plasma de Argônio, Hidrogênio a baixa pressão e radiação ultravioleta (UV, UV/fotoiniciador e VUV), a fim de aumentar sua energia de superficie e melhorar, conseqüentemente, suas características adesivas. Para isso, realizou-se.~ a deposição de camadas de Hexametildisiloxano sobre placas de alumínio, por deposição química, em fase vapor assistida por plasma (PEVD), a que se seguiu o processo de ativação. Estudou-se ainda a influência dos parâmetros de deposição, processos a plasma de baixa pressão e radiação ultravioleta na funcionalização da superfície. Obteve-se, como resultado, um importante aumento na energia de superficie das camadas depositadas. Por exemplo: após usar plasma de Hidrogênio, o ângulo de contato obtido foi de 5,4°, que equivale a um aumento de energia superficial de 96,82 mN/m. O uso de radiação UVNUV e UV/fotoiniciador permitiu também mC?dificar a superficie do HMDSO; porém, quando comparado ao tratamento com plasma, o aumento obtido nos valores de energia de superficie foi significativamente menor. A natureZa química das modificações foi analisada por espectroscopia no infravermelho por transformada de Fourier (FTIR). Dentre os resultados mais importantes na análise por FTIR, observou-se que o plasma de Argônio contribui para a reticulação do filme e lidera a incorporação de funcionalidades de -OH, principalmente pelas reações que acontecem posteriormente com o ar. Quando analisadas as mudanças na morfologia da superficie por microscopia eletrônica de varredura (MEV), a análise evidenciou que, no plasma de Argônio, a radiação VUV possui um importante papel na modificação morfológica da camada de HMDSO depositadaAbstract: The development of clean and efficient technologies to replace traditional methods for solid metallic or polymeric surface treatment in processes related to adhesion is a very important area of research. Plasma treatment and ultraviolet radiation are an altemative to accomplish these objectives since they generate very little residues, can be easily manipulated and make possible the treatment of surfaces with different geometries. The activation of Hexamethyldisiloxane (HMDSO) layers with the use of low pressure Argon plasma, low pressure Hydrogen plasma and ultraviolet radiation (UV, UV/photo initiator and VUV) was carried out. The goal was to increase surface energy consequently, improving the adhesive characteristics of these surfaces. The deposition of Hexamethyldisiloxane layers on aluminium plates, in a first step, was achieved by chemical deposition in vapour phase assisted by plasma (PEVD). The activation process with plasma and ultraviolet radiation followed as a second treatment. The influence of operation parameters over the properties of functionalized surfaces treated with plasma and UV radiation were studied. An important increase on the surface energy of deposited layers was observed. For example, the contact angle measured with de-ionized water was reduced to 5,4° when using the Hydrogen plasma treatment. It was equivalent to an increase in surface energy of 96,82 mN/m. The use of UVNUV radiation and UV/photo-initiator also modify . the surface of HMDSO, however, the increase in the surface energy was smaller. than those observed with plasma treatment. The chemical nature of modified surfaces was analyzed by Fourier Transform Infra Red Spectroscopy (FTIR). The Argon plasma contributes to the film reticulation, and leads the incorporation of - OH functionalities, resulting from reactions with air. Scanning Electron Microscopy (SEM) suggest that, inside of Argon plasma, the VUV radiation possess an important role in the morphologic modification of the HMDSO deposited layerMestradoCiência e Tecnologia de MateriaisMestre em Engenharia Química[s.n.]Bittencourt, Edison, 1941-Aguila, Zaida JovaUzumaki, Emilia TiekoUniversidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia QuímicaPrograma de Pós-Graduação em Engenharia QuímicaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASGarcía Pérez, Tsai20072007-05-21T00:00:00Zinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf86 p. : il.(Broch.)https://hdl.handle.net/20.500.12733/1605462GARCÍA PÉREZ, Tsai. Ativação de filme de hexametildisiloxano com o uso de plasma de baixa pressão e radiação UV. 2007. 86 p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Quimica, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1605462. Acesso em: 15 mai. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/407609porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2019-05-23T10:55:03Zoai::407609Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2019-05-23T10:55:03Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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