Propriedades de filmes finos de ZnO:Al depositados sobre substratos de poliimida à temperatura ambiente para aplicações em dispositivos optoeletrônicos flexíveis

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Autor(a) principal: Cruz,L. R.
Data de Publicação: 2017
Outros Autores: Lopes,B. F. M., Medeiro,R. A., Lima,R. M. C., Ferreira,C. L.
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Cerâmica (São Paulo. Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0366-69132017000200162
Resumo: Resumo Este trabalho apresenta as propriedades de filmes finos de ZnO:Al crescidos por pulverização catódica com rádio frequência sobre substratos de poliimida para serem utilizados como eletrodos flexíveis de dispositivos optoeletrônicos. Para efeitos de comparação, os filmes também foram crescidos sobre lâminas de vidro soda-lime. Os filmes foram depositados com diversas potências de trabalho, sobre substratos mantidos à temperatura ambiente. Os efeitos da potência e da espessura nas propriedades ópticas, elétricas e estruturais do ZnO:Al foram investigados. Imagens de microscopia de força atômica revelaram que os filmes foram nanocristalinos e de baixa rugosidade. Valores de resistência de folha de 8 Ω/sq, correspondente a uma resistividade de 6x10-4 W.cm, e de transmitância de 75% na faixa do visível foram obtidos, os quais podem ser considerados satisfatórios, principalmente quando se considera que a deposição foi realizada à temperatura ambiente.
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