Medidas de expoentes críticos de filmes de diamante por meio de microscopia de força atômica

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Marcilei Aparecida Guazzelli da Silveira
Data de Publicação: 1999
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
Texto Completo: https://doi.org/10.11606/D.43.1999.tde-19062015-165612
Resumo: Neste trabalho investigamos a dinâmica de crescimento de filmes de diamante sintetizados por meio de deposição química a vapor ativada por plasma de microondas (CVD). A caracterização foi feita utilizando, fundamentalmente, microscopia de força atômica (AFM). Analisamos o comportamento da rugosidade dos filmes como função da escala de observação e do tempo de deposição. Dessa maneira verificamos a existência de leis de potência para o crescimento e determinamos os expoentes críticos associados a essas leis. Os resultados obtidos estão em bom acordo com o processo de crescimento descrito pela equação estocástica KPZ. Os mecanismos principais são a deposição aleatória de partículas na superfície, o crescimento lateral e a dessorção.
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spelling info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesis Medidas de expoentes críticos de filmes de diamante por meio de microscopia de força atômica Measures of critical exponents of diamond films using atomic force microscopy 1999-05-28Maria Cecilia Barbosa da Silveira SalvadoriRoberto Mendonça FariaAlain Andre QuivyMarcilei Aparecida Guazzelli da SilveiraUniversidade de São PauloFísicaUSPBR Atomic force microscopy Critical exponents Diamond films Expoentes críticos Filmes de diamante KPZ KPZ Leis de escala Microscopia de força atômica Scale laws Neste trabalho investigamos a dinâmica de crescimento de filmes de diamante sintetizados por meio de deposição química a vapor ativada por plasma de microondas (CVD). A caracterização foi feita utilizando, fundamentalmente, microscopia de força atômica (AFM). Analisamos o comportamento da rugosidade dos filmes como função da escala de observação e do tempo de deposição. Dessa maneira verificamos a existência de leis de potência para o crescimento e determinamos os expoentes críticos associados a essas leis. Os resultados obtidos estão em bom acordo com o processo de crescimento descrito pela equação estocástica KPZ. Os mecanismos principais são a deposição aleatória de partículas na superfície, o crescimento lateral e a dessorção. Diamond films have been grown by Microwave Plasma assisted Chemical Vapor Deposition (CVD). The characterization has been made mainly by Atomic Force Microscopy (AFM). We could analyze the roughness behavior with the scale of observation and with the deposition time. We could determine the critical exponents associated with these laws. The results suggest that the growth process is in good agreement with the stochastic growth equation known as KPZ. The most important mechanisms are the random deposition, the lateral growth and the desorption. https://doi.org/10.11606/D.43.1999.tde-19062015-165612info:eu-repo/semantics/openAccessporreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USPinstname:Universidade de São Paulo (USP)instacron:USP2023-12-21T19:24:47Zoai:teses.usp.br:tde-19062015-165612Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.teses.usp.br/PUBhttp://www.teses.usp.br/cgi-bin/mtd2br.plvirginia@if.usp.br|| atendimento@aguia.usp.br||virginia@if.usp.bropendoar:27212023-12-22T12:54:57.296071Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP - Universidade de São Paulo (USP)false
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