CRESCIMENTO DE SUBÓXIDOS DE TI POR GRID-ASSISTED MAGNETRON SPUTTERING REATIVO: MODIFICAÇÕES DAS PROPRIEDADES ELÉTRICAS E ÓPTICAS ATRAVÉS DA INSERÇÃO DE OXIGÊNIO

Detalhes bibliográficos
Data de Publicação: 2018
Tipo de documento: Dissertação
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
Texto Completo: https://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=6398890
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Filmes finos de TiOx. Propriedades Ópticas. Propriedades Elétricas.
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