DEPOSIÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE ÓXIDO DE HÁFNIO PARA APLICAÇÃO EM DISPOSITIVO MOSFET

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: FABIANA DE ARAUJO RIBEIRO
Data de Publicação: 2014
Tipo de documento: Tese
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
Texto Completo: https://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=2067437
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