Desenvolvimento da técnica elipsométrica para caracterização ótica de filmes finos

• Autor(a) principal: Sonia Guimaraes
• Data de Publicação: 1983
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP
• Texto Completo: https://doi.org/10.11606/D.54.1983.tde-02062015-174414

Neste trabalho é apresentado a montagem e desenvolvimento de um elipsômetro fotométrico, com o qual se pode fazer a caracterização ótica de filmes finos, ou seja, medir o índice de refração e a espessura, independentemente se o filme é transparente ou não. O primeiro objetivo foi estudar filmes antirefletores sobre células solares de sílico monocristalino, mas o método permite caracterizar qualquer tipo de filme sobre qualquer substrato. O funcionamento desse equipamento está baseado na elipsometria, que consiste em uma técnica ótica que explora a transformação da polarização de um feixe de luz, refletido pelo filme em estudo. Com os dados fornecidos por essa técnica e com a ajuda de um computador pode-se determinar o índice de refração real para filmes transparentes e complexos (parte real e imaginária) para filmes absorventes, assim como a espessura. Obtivemos como a parte real do índice de refração do dióxido de estanho R1 = (1,95 &#177 0,03), para o dióxido de titânio R1= (2,42 &#177 0,02), para o sequióxido de alumínio R1= 1,54 e R1= 1,32 para o difluoreto de magnésio, que estão perfeitamente de acordo com os resultados publicados na literatura