Contribuição à Utilização da Implantação Iônica de Fósforo e Potássio na Dopagem do Silício Amorfo Hidrogenado

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Fernando JOSEPETTI FONSECA
Data de Publicação: 1994
Tipo de documento: Tese
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
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