Influência dos parâmetros do plasma de um Magnetron Sputtering de alvos opostos (RAMS) no controle do crescimento de filmes finos de Hidroxiapatita, com substituições iônicas para aplicações Biomédicas

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: ELVIS OSWALDO LOPEZ MEZA
Data de Publicação: 2014
Tipo de documento: Tese
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
Texto Completo: https://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=1810449
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