CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS OBTIDOS POR DEPOSIÇÃO A VAPOR QUÍMICA ASSISTIDO POR PLASMA (PECVD) E DEPOSIÇÃO E IMPLANTAÇÃO IONICA POR IMERSÃO EM PLASMA (DIIIP)

Detalhes bibliográficos
Data de Publicação: 2012
Tipo de documento: Dissertação
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
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