Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Michel Chaves
Data de Publicação: 2014
Tipo de documento: Dissertação
Título da fonte: Portal de Dados Abertos da CAPES
Texto Completo: https://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=996070
id BRCRIS_b357afa06b65428f4713abcbcb52cc0b
network_acronym_str CAPES
network_name_str Portal de Dados Abertos da CAPES
dc.title.pt-BR.fl_str_mv Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
title Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
spellingShingle Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
RF magnetron sputtering, óxido de zinco, morfologia superficial, transmitância óptica, resistividade elétrica.
RF magnetron sputtering, zinc oxide, surface morphology, optical transmittance, electrical resistivity.
Michel Chaves
title_short Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
title_full Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
title_fullStr Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
title_full_unstemmed Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
title_sort Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo
topic RF magnetron sputtering, óxido de zinco, morfologia superficial, transmitância óptica, resistividade elétrica.
RF magnetron sputtering, zinc oxide, surface morphology, optical transmittance, electrical resistivity.
publishDate 2014
format masterThesis
url https://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=996070
author_role author
author Michel Chaves
author_facet Michel Chaves
dc.contributor.authorLattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/3477198763030811
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv JOSE ROBERTO RIBEIRO BORTOLETO
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv http://lattes.cnpq.br/0104980613925349
dc.contributor.advisor1orcid.por.fl_str_mv https://orcid.org/0000-0003-4129-7819
dc.publisher.none.fl_str_mv UNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURU
publisher.none.fl_str_mv UNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURU
instname_str UNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURU
dc.publisher.program.fl_str_mv CIÊNCIA E TECNOLOGIA DE MATERIAIS
dc.description.course.none.fl_txt_mv CIÊNCIA E TECNOLOGIA DE MATERIAIS
reponame_str Portal de Dados Abertos da CAPES
collection Portal de Dados Abertos da CAPES
spelling CAPESPortal de Dados Abertos da CAPESEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoEfeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering ReativoRF magnetron sputtering, óxido de zinco, morfologia superficial, transmitância óptica, resistividade elétrica.2014masterThesishttps://sucupira.capes.gov.br/sucupira/public/consultas/coleta/trabalhoConclusao/viewTrabalhoConclusao.jsf?popup=true&id_trabalho=996070authorMichel Chaveshttp://lattes.cnpq.br/3477198763030811JOSE ROBERTO RIBEIRO BORTOLETOhttp://lattes.cnpq.br/0104980613925349https://orcid.org/0000-0003-4129-7819UNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURUUNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURUUNIVERSIDADE EST.PAULISTA JÚLIO DE MESQUITA FILHO/BAURUCIÊNCIA E TECNOLOGIA DE MATERIAISCIÊNCIA E TECNOLOGIA DE MATERIAISPortal de Dados Abertos da CAPESPortal de Dados Abertos da CAPES
identifier_str_mv Chaves, Michel. Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo. 2014. Tese.
dc.identifier.citation.fl_str_mv Chaves, Michel. Efeito da Pressão em Filmes Finos de ZnO:Al por RF Magnetron Sputtering Reativo. 2014. Tese.
_version_ 1741888480179388416

Registros relacionados