Adsorção de níquel e cobalto em resina de troca iônica como alternativa para o tratamento de licor de lixiviação
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Data de Publicação: | 2011 |
Outros Autores: | , |
Tipo de documento: | Artigo |
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Título da fonte: | REM. Revista Escola de Minas (Online) |
Texto Completo: | http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S0370-44672011000300010 |
Resumo: | Estudou-se o emprego da resina PUROLITE S-930 como substrato para a remoção de níquel e cobalto de soluções sulfúricas. Experimentos de adsorção com diferentes razões [Ni]/[Co] mostraram uma maior seleção da resina em soluções mais ricas em níquel (Ni 600 mg/L - Co 800 mg/L). Isotermas de adsorção mostraram um aumento na capacidade de adsorção da resina em temperaturas mais elevadas (q max Ni 0,28 mol/L, a 70ºC e q max Co 0,18 mol/L, a 60ºC). Os valores de ∆H indicaram uma fisiossorção endotérmica. Para modelar a cinética de carregamento da resina, em leito fixo, utilizou-se o modelo de difusão superficial homogênea (Homogeneous Surface Diffusion Model - HSDM). Os resultados mostram um bom ajuste ao modelo, com k f = 5,2x10-6 m/s e D S = 4,5x10-12 m²/s, indicando que o carregamento da resina baseia-se em difusão na camada-limite e difusão nos poros da resina. |
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Estudou-se o emprego da resina PUROLITE S-930 como substrato para a remoção de níquel e cobalto de soluções sulfúricas. Experimentos de adsorção com diferentes razões [Ni]/[Co] mostraram uma maior seleção da resina em soluções mais ricas em níquel (Ni 600 mg/L - Co 800 mg/L). Isotermas de adsorção mostraram um aumento na capacidade de adsorção da resina em temperaturas mais elevadas (q max Ni 0,28 mol/L, a 70ºC e q max Co 0,18 mol/L, a 60ºC). Os valores de ∆H indicaram uma fisiossorção endotérmica. Para modelar a cinética de carregamento da resina, em leito fixo, utilizou-se o modelo de difusão superficial homogênea (Homogeneous Surface Diffusion Model - HSDM). Os resultados mostram um bom ajuste ao modelo, com k f = 5,2x10-6 m/s e D S = 4,5x10-12 m²/s, indicando que o carregamento da resina baseia-se em difusão na camada-limite e difusão nos poros da resina. |
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