Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Merzbahcer, N. C. C.
Data de Publicação: 2019
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
Texto Completo: https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/3089
Resumo: Para suprir a crescente demanda de velocidade, desempenho e baixo consumo, a indústria de circuitos integrados tem se desenvolvido de forma agressiva nos últimos anos, consolidando a tecnologia CMOS como fator essencial para o avanço tecnológico desses dispositivos, onde a base já foi o transistor MOSFET. A tecnologia SOI (Silicon-On-Insulator) surgiu como uma alternativa para a redução das capacitâncias parasitárias de fonte e dreno, imunidade à radiação, operação em altas temperaturas e uma melhor inclinação de sublimiar. O transistor SOI UTBB (Ultra-Thin Body and Buried oxide), com corpo e óxido enterrado ultrafinos, é atualmente considerado como uma das opções possíveis para nós tecnológicos abaixo de 20 nm. Isso foi possível pois tornou-se viável alcançar baixas espessuras de óxido enterrado, por sua ótima integração entre os circuitos e por sua menor resistência térmica do óxido enterrado mais fino, bem como ao seu melhor controle eletrostático. Porém, a constante miniaturização nas dimensões físicas dos transistores faz com que estes sofram com os efeitos de canal curto (Short Channel Effects – SCE). Neste trabalho, é realizado um estudo sobre a densidade de carga de inversão na condição de limiar para temperaturas na faixa de 300 a 425K. Estudar a influência da temperatura em UTBBs é importante pois, estes dispositivos podem atingir temperaturas elevadas em condições normais de operação. O estudo é baseado na comparação de valores extraídos de simulações numéricas com modelos analíticos consolidados na literatura. Os resultados obtidos são analisados criticamente de forma a obter um modelo para a carga de inversão que tenha uma boa relação entre a precisão e a simplicidade do mesmo
id FEI_0c125a7263432eb08d421e056fdb7c14
oai_identifier_str oai:repositorio.fei.edu.br:FEI/3089
network_acronym_str FEI
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
repository_id_str https://repositorio.fei.edu.br/oai/request
spelling Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETSTransistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutorPara suprir a crescente demanda de velocidade, desempenho e baixo consumo, a indústria de circuitos integrados tem se desenvolvido de forma agressiva nos últimos anos, consolidando a tecnologia CMOS como fator essencial para o avanço tecnológico desses dispositivos, onde a base já foi o transistor MOSFET. A tecnologia SOI (Silicon-On-Insulator) surgiu como uma alternativa para a redução das capacitâncias parasitárias de fonte e dreno, imunidade à radiação, operação em altas temperaturas e uma melhor inclinação de sublimiar. O transistor SOI UTBB (Ultra-Thin Body and Buried oxide), com corpo e óxido enterrado ultrafinos, é atualmente considerado como uma das opções possíveis para nós tecnológicos abaixo de 20 nm. Isso foi possível pois tornou-se viável alcançar baixas espessuras de óxido enterrado, por sua ótima integração entre os circuitos e por sua menor resistência térmica do óxido enterrado mais fino, bem como ao seu melhor controle eletrostático. Porém, a constante miniaturização nas dimensões físicas dos transistores faz com que estes sofram com os efeitos de canal curto (Short Channel Effects – SCE). Neste trabalho, é realizado um estudo sobre a densidade de carga de inversão na condição de limiar para temperaturas na faixa de 300 a 425K. Estudar a influência da temperatura em UTBBs é importante pois, estes dispositivos podem atingir temperaturas elevadas em condições normais de operação. O estudo é baseado na comparação de valores extraídos de simulações numéricas com modelos analíticos consolidados na literatura. Os resultados obtidos são analisados criticamente de forma a obter um modelo para a carga de inversão que tenha uma boa relação entre a precisão e a simplicidade do mesmoTo meet the increasing for speed, performance and low power consumption, the integrated circuit industry has aggressively developed in recent years and has consolidated CMOS technology as an essential factor for the technological advancement of these devices, based on the MOSFET transistor. The SOI (Silicon-On-Insulator) technology has emerged as an alternative for the parasitic source and drain capacitances reduction, radiation immunity, high temperature operation and sharper subthreshold slope. The UTBB (Ultra-Thin Body and Buried Oxide) SOI transistor, with thin body and buried oxide is nowadays considered as the possible options for technological nodes below 20 nm, to be possible achieve low buried oxide thicknesses, the good integration of circuits and due to your better electrostatic control. However, the continuous miniaturization in physical dimensions make it suffer with (SCE) Short Channel Effects. In this work is realized a study about the inversion charge density in threshold condition for temperatures between 300 and 425 K. Study the influence of temperature in UTBBs is important because it can achieve elevated temperatures in normal operation conditions. The study is based in comparison between extracted values of numerical simulations and analytical models previously studied. The results are analyzed to obtain a model for inversion charge density that has good relation between precision and simplicityCentro Universitário FEI, São Bernardo do CampoGiacomini, R.Merzbahcer, N. C. C.2020-06-18T20:35:38Z2020-06-18T20:35:38Z2019info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfMERZBAHCER, N. C. C. <b> Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS. </b> 2019. 97 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2019. Disponível em: &lt;https://doi.org/10.31414/EE.2019.D.130994&gt;. Acesso em: 11 dez. 2019.10.31414/EE.2019.D.130994https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/3089porpt_BRreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEIinstname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)instacron:FEIinfo:eu-repo/semantics/openAccess2023-03-14T12:57:17Zoai:repositorio.fei.edu.br:FEI/3089Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/biblioteca/PRIhttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/oai/oai2.phpcfernandes@fei.edu.bropendoar:https://repositorio.fei.edu.br/oai/request2023-03-14T12:57:17Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI - Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)false
dc.title.none.fl_str_mv Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
title Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
spellingShingle Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
Merzbahcer, N. C. C.
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
title_short Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
title_full Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
title_fullStr Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
title_full_unstemmed Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
title_sort Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS
author Merzbahcer, N. C. C.
author_facet Merzbahcer, N. C. C.
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv Giacomini, R.
dc.contributor.author.fl_str_mv Merzbahcer, N. C. C.
dc.subject.por.fl_str_mv Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
topic Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
description Para suprir a crescente demanda de velocidade, desempenho e baixo consumo, a indústria de circuitos integrados tem se desenvolvido de forma agressiva nos últimos anos, consolidando a tecnologia CMOS como fator essencial para o avanço tecnológico desses dispositivos, onde a base já foi o transistor MOSFET. A tecnologia SOI (Silicon-On-Insulator) surgiu como uma alternativa para a redução das capacitâncias parasitárias de fonte e dreno, imunidade à radiação, operação em altas temperaturas e uma melhor inclinação de sublimiar. O transistor SOI UTBB (Ultra-Thin Body and Buried oxide), com corpo e óxido enterrado ultrafinos, é atualmente considerado como uma das opções possíveis para nós tecnológicos abaixo de 20 nm. Isso foi possível pois tornou-se viável alcançar baixas espessuras de óxido enterrado, por sua ótima integração entre os circuitos e por sua menor resistência térmica do óxido enterrado mais fino, bem como ao seu melhor controle eletrostático. Porém, a constante miniaturização nas dimensões físicas dos transistores faz com que estes sofram com os efeitos de canal curto (Short Channel Effects – SCE). Neste trabalho, é realizado um estudo sobre a densidade de carga de inversão na condição de limiar para temperaturas na faixa de 300 a 425K. Estudar a influência da temperatura em UTBBs é importante pois, estes dispositivos podem atingir temperaturas elevadas em condições normais de operação. O estudo é baseado na comparação de valores extraídos de simulações numéricas com modelos analíticos consolidados na literatura. Os resultados obtidos são analisados criticamente de forma a obter um modelo para a carga de inversão que tenha uma boa relação entre a precisão e a simplicidade do mesmo
publishDate 2019
dc.date.none.fl_str_mv 2019
2020-06-18T20:35:38Z
2020-06-18T20:35:38Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv MERZBAHCER, N. C. C. <b> Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS. </b> 2019. 97 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2019. Disponível em: &lt;https://doi.org/10.31414/EE.2019.D.130994&gt;. Acesso em: 11 dez. 2019.
10.31414/EE.2019.D.130994
https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/3089
identifier_str_mv MERZBAHCER, N. C. C. <b> Análise da densidade de carga de inversão na condição limiar, em função da temperatura, em UTBB SOI MOSFETS. </b> 2019. 97 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo, 2019. Disponível em: &lt;https://doi.org/10.31414/EE.2019.D.130994&gt;. Acesso em: 11 dez. 2019.
10.31414/EE.2019.D.130994
url https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/3089
dc.language.iso.fl_str_mv por
pt_BR
language por
language_invalid_str_mv pt_BR
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo
publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário FEI, São Bernardo do Campo
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
instname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron:FEI
instname_str Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron_str FEI
institution FEI
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
repository.name.fl_str_mv Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI - Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
repository.mail.fl_str_mv cfernandes@fei.edu.br
_version_ 1809225179573780480