Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Dantas, L. P.
Data de Publicação: 2008
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
Texto Completo: https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/392
Resumo: Neste trabalho é apresentado o estudo comparativo de distorção harmônica entre transistores SOI nMOSFEts parcialmente depletados de porta de geometria circular e convencional, operando na região de saturação e em temperatura ambiente. Para tanto, são utilizados transistores com comprimento médio de canal igual a 1 um e óxido de porta igual a 2,5 nm. O transistor de porta circular apresenta assimetria entre as regiões de dreno e fonte, podendo assim ser polarizado de duas formas diferentes, denominadas de configuração de dreno externo e dreno interno. Uma outra característica do transistor circular, que não é observada nos transistores convencionais, é a ocorrência da corrente de dreno na direção radial. Para este trabalho foram executadas medidas experimentais e simulações numéricas tridimensionais para determinação das curvas características dos transistores [corrente de dreno em função da tensãod e porta (Ids x Vgs) e corrente de dreno em função da tensão de dreno (Ids x Vds)]. Toda análise da distorção harmônica foi feita aplicando-se o método da Função Integral (IFM), que permite a determinação de ditorção harmônica total (THD) e da distorção do segundo (HD2) e terceiro (HD3) harmônicos, usando-se apenas as curvas características de corrente contínua (DC) dos dispositivos. Essa análise mostrou, através da figura de mérito dividido pelo ganho em malha aberta (Av)] em função da razão da transcondutância (gm) sobre Ids do SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuração de dreno exrerno é menor do que na configuração de dreno interno e também que a configuração convencional do SOI nMOSFET. Isso faz com que o SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuraçção de dreno externo seja uma execelente alternativa em aplicações de circuitos integrados analógicos.
id FEI_a17c1507935fa80bf622a08a1968e608
oai_identifier_str oai:repositorio.fei.edu.br:FEI/392
network_acronym_str FEI
network_name_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
repository_id_str
spelling Dantas, L. P.Gimenez, S. P.2019-03-20T14:00:48Z2019-03-20T14:00:48Z2008DANTAS, L. P. <b> Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um. </b> 2008. 145 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da Fei, São Bernardo do Campo, 2008 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=49>. Acesso em: 28 nov. 2008.https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/392Neste trabalho é apresentado o estudo comparativo de distorção harmônica entre transistores SOI nMOSFEts parcialmente depletados de porta de geometria circular e convencional, operando na região de saturação e em temperatura ambiente. Para tanto, são utilizados transistores com comprimento médio de canal igual a 1 um e óxido de porta igual a 2,5 nm. O transistor de porta circular apresenta assimetria entre as regiões de dreno e fonte, podendo assim ser polarizado de duas formas diferentes, denominadas de configuração de dreno externo e dreno interno. Uma outra característica do transistor circular, que não é observada nos transistores convencionais, é a ocorrência da corrente de dreno na direção radial. Para este trabalho foram executadas medidas experimentais e simulações numéricas tridimensionais para determinação das curvas características dos transistores [corrente de dreno em função da tensãod e porta (Ids x Vgs) e corrente de dreno em função da tensão de dreno (Ids x Vds)]. Toda análise da distorção harmônica foi feita aplicando-se o método da Função Integral (IFM), que permite a determinação de ditorção harmônica total (THD) e da distorção do segundo (HD2) e terceiro (HD3) harmônicos, usando-se apenas as curvas características de corrente contínua (DC) dos dispositivos. Essa análise mostrou, através da figura de mérito dividido pelo ganho em malha aberta (Av)] em função da razão da transcondutância (gm) sobre Ids do SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuração de dreno exrerno é menor do que na configuração de dreno interno e também que a configuração convencional do SOI nMOSFET. Isso faz com que o SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuraçção de dreno externo seja uma execelente alternativa em aplicações de circuitos integrados analógicos.This work presents a comparative study of harmonic distortion between circular and conventional gate partially-depleted SOI nMOSFETs, operating in saturation region and room temperature. Transistors with canal length of 1um and gate oxide thickness equal to 2.5 nm are used in this. The drain and source regions of circular gate transistor are asymmetric, and they can be biased of two different ways, called external drain or internal drain configuration. Another characteristic of circular transistor that is not observed in conventional transistors is measurements and numerical tri-dimensional simulations for determination of fundamental transistor curves [drin current as a function of gate voltage (Ids x Vfs0 e drain current as a function of drain voltage (Ids x Vds)]. The whole analysis of distortion is made using the Integral Function Method (IFM) that permits the determination of total harmonic distortion (THD), second (HD2) and third (HD3) harmonic distortions only by using the direct current (DC) characteristic curves. The analysis showed, based on the most import merit figure produced in this work, that the effective total harmonic distortion [THD over the open loop gain (Av)] as a function of transconductance (gm) over Ids of the circular gate SOI nMOSFETwith external drain configuration is lower than internal drain configuration and rhe conventional SOI nMOSFET too. It makes the circular gate SOI nMOSFET with external drain configuration as excellent option for analog integrated circuit application.porpt_BRCentro Universitário da FEI, São Bernardo do CampoTecnologia de silício sobre isolanteTransistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutorCircuitos integrados linearesEstudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13uminfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEIinstname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)instacron:FEIinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINALfulltext.pdffulltext.pdfapplication/pdf1621651https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/2/fulltext.pdf4a28197de7fe4e6d854868efca9a3b29MD52TEXTfulltext.pdf.txtfulltext.pdf.txtExtracted texttext/plain236234https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/3/fulltext.pdf.txt7c980b94b683a74800ccf3c423b98596MD53THUMBNAILfulltext.pdf.jpgfulltext.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1268https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/4/fulltext.pdf.jpg54c7d9b57b211351ebb2a7793805977fMD54FEI/3922019-05-07 15:17:18.949Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/biblioteca/PRI
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
title Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
spellingShingle Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
Dantas, L. P.
Tecnologia de silício sobre isolante
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
Circuitos integrados lineares
title_short Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
title_full Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
title_fullStr Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
title_full_unstemmed Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
title_sort Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um
author Dantas, L. P.
author_facet Dantas, L. P.
author_role author
dc.contributor.author.fl_str_mv Dantas, L. P.
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv Gimenez, S. P.
contributor_str_mv Gimenez, S. P.
dc.subject.por.fl_str_mv Tecnologia de silício sobre isolante
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
Circuitos integrados lineares
topic Tecnologia de silício sobre isolante
Transistor de efeito de campo de metal-óxido semicondutor
Circuitos integrados lineares
description Neste trabalho é apresentado o estudo comparativo de distorção harmônica entre transistores SOI nMOSFEts parcialmente depletados de porta de geometria circular e convencional, operando na região de saturação e em temperatura ambiente. Para tanto, são utilizados transistores com comprimento médio de canal igual a 1 um e óxido de porta igual a 2,5 nm. O transistor de porta circular apresenta assimetria entre as regiões de dreno e fonte, podendo assim ser polarizado de duas formas diferentes, denominadas de configuração de dreno externo e dreno interno. Uma outra característica do transistor circular, que não é observada nos transistores convencionais, é a ocorrência da corrente de dreno na direção radial. Para este trabalho foram executadas medidas experimentais e simulações numéricas tridimensionais para determinação das curvas características dos transistores [corrente de dreno em função da tensãod e porta (Ids x Vgs) e corrente de dreno em função da tensão de dreno (Ids x Vds)]. Toda análise da distorção harmônica foi feita aplicando-se o método da Função Integral (IFM), que permite a determinação de ditorção harmônica total (THD) e da distorção do segundo (HD2) e terceiro (HD3) harmônicos, usando-se apenas as curvas características de corrente contínua (DC) dos dispositivos. Essa análise mostrou, através da figura de mérito dividido pelo ganho em malha aberta (Av)] em função da razão da transcondutância (gm) sobre Ids do SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuração de dreno exrerno é menor do que na configuração de dreno interno e também que a configuração convencional do SOI nMOSFET. Isso faz com que o SOI nMOSFET de porta de geometria circular operando em configuraçção de dreno externo seja uma execelente alternativa em aplicações de circuitos integrados analógicos.
publishDate 2008
dc.date.issued.fl_str_mv 2008
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2019-03-20T14:00:48Z
dc.date.available.fl_str_mv 2019-03-20T14:00:48Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.citation.fl_str_mv DANTAS, L. P. <b> Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um. </b> 2008. 145 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da Fei, São Bernardo do Campo, 2008 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=49>. Acesso em: 28 nov. 2008.
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/392
identifier_str_mv DANTAS, L. P. <b> Estudo da distorção harmônica em transistores de porta circular usando tecnologia SOI CMOS sub-micrométrica de 0,13um. </b> 2008. 145 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da Fei, São Bernardo do Campo, 2008 Disponível em: <http://sofia.fei.edu.br/tede/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=49>. Acesso em: 28 nov. 2008.
url https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/392
dc.language.iso.fl_str_mv por
pt_BR
language por
language_invalid_str_mv pt_BR
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
publisher.none.fl_str_mv Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
instname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron:FEI
instname_str Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)
instacron_str FEI
institution FEI
reponame_str Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
collection Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/2/fulltext.pdf
https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/3/fulltext.pdf.txt
https://repositorio.fei.edu.br/bitstream/FEI/392/4/fulltext.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv 4a28197de7fe4e6d854868efca9a3b29
7c980b94b683a74800ccf3c423b98596
54c7d9b57b211351ebb2a7793805977f
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1734750996195704832