Estudo da tensão de limiar e inclinação de sublimiar em transistores SOI FinFETs de porta dupla e porta tripla
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Data de Publicação: | 2007 |
Tipo de documento: | Dissertação |
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Estudo da tensão de limiar e inclinação de sublimiar em transistores SOI FinFETs de porta dupla e porta triplaEngenharia elétricaTecnologia de silício sobre isolanteCentro Universitário da FEI, São Bernardo do CampoMartino, J. A.Andrade, M. G. C.2019-03-21T12:32:11Z2019-03-21T12:32:11Z2007info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfANDRADE, M. G. C. <b> Estudo da tensão de limiar e inclinação de sublimiar em transistores SOI FinFETs de porta dupla e porta tripla. </b> 2007. 120 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2007https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/652porpt_BRreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEIinstname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)instacron:FEIinfo:eu-repo/semantics/openAccess2024-03-01T22:47:53Zoai:repositorio.fei.edu.br:FEI/652Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/biblioteca/PRIhttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/oai/oai2.phpcfernandes@fei.edu.bropendoar:https://repositorio.fei.edu.br/oai/request2024-03-01T22:47:53Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI - Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)false |
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