Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricos
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Data de Publicação: | 2009 |
Tipo de documento: | Dissertação |
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Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricosBaixas temperaturasTecnologia de silício sobre isolanteCentro Universitário da FEI, São Bernardo do CampoPavanello, M. A.Silva Júnior, J. M.2019-03-20T14:01:00Z2019-03-20T14:01:00Z2009info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfSILVA JÚNIOR, J. M. <b> Estudo do efeito de redução de barreira induzida pelo dreno em temperaturas criogênicas para transistores SOI ultra-submicrométricos. </b> 2009. 96 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Elétrica) - Centro Universitário da FEI, São Bernardo do Campo, 2009https://repositorio.fei.edu.br/handle/FEI/486porpt_BRreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEIinstname:Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)instacron:FEIinfo:eu-repo/semantics/openAccess2023-03-14T12:47:14Zoai:repositorio.fei.edu.br:FEI/486Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/biblioteca/PRIhttp://sofia.fei.edu.br/pergamum/oai/oai2.phpcfernandes@fei.edu.bropendoar:https://repositorio.fei.edu.br/oai/request2023-03-14T12:47:14Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da FEI - Centro Universitário da Fundação Educacional Inaciana (FEI)false |
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