Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Teixeira, Francisco Lima C.
Data de Publicação: 1992
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Revista de Administração de Empresas
Texto Completo: https://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470
Resumo: The objective of this paper is to present and discuss some data and information about the diffusion process of microeletronic technology in the continuous process industry in Brazil. The data presented show the high level of diffusion of this technology in relation to the discrete parts manufacturing industry. The base installed in Brazil is proportionally larger than those of industrialized countries. The decision to adopt the microelectronic technology in this industry is strongly influenced by variables of "sócio-institutional" nature, as the technical and economic information are not always promptly available. Among the "socio-instuutional" variables analysed, the impact of the market reserve policy on the diffusion process is given special attention.
id FGV-7_085df699d475ae92b3ae5ae48aa4f87c
oai_identifier_str oai:bibliotecadigital.fgv.br:article/38470
network_acronym_str FGV-7
network_name_str Revista de Administração de Empresas
repository_id_str
spelling Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuoDifusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuoMicroeletronicdifusioncontinuous process industriesMicroeletrônicadifusãoprocesso-contínuoThe objective of this paper is to present and discuss some data and information about the diffusion process of microeletronic technology in the continuous process industry in Brazil. The data presented show the high level of diffusion of this technology in relation to the discrete parts manufacturing industry. The base installed in Brazil is proportionally larger than those of industrialized countries. The decision to adopt the microelectronic technology in this industry is strongly influenced by variables of "sócio-institutional" nature, as the technical and economic information are not always promptly available. Among the "socio-instuutional" variables analysed, the impact of the market reserve policy on the diffusion process is given special attention.O objetivo deste trabalho é apresentar e discutir dados e informações a respeito do processo de difusão da tecnologia digital na indústria de processo contínuo no Brasil. Os dados apresentados indicam o alto grau de difusão dessa tecnologia em relação à indústria de processo intermitente.A base instalada no Brasil é, proporcionalmente, maior do que a dos países industrializados. A decisão de adotar a tecnologia digital nessas indústrias é fortemente influenciada por variáveis de natureza "sócio-institucional", uma vez que as informações técnicas e econômicas nem sempre estão disponíveis no momento da decisão. Entre as variáveis "sócio-institucionais", analisa-se a influência da política de reserva de mercado no processo de difusão.RAE - Revista de Administracao de Empresas RAE - Revista de Administração de EmpresasRAE-Revista de Administração de Empresas1992-11-01info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionapplication/pdfhttps://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470RAE - Revista de Administracao de Empresas ; Vol. 32 No. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-26RAE - Revista de Administração de Empresas; Vol. 32 Núm. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-26RAE-Revista de Administração de Empresas; v. 32 n. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-262178-938X0034-7590reponame:Revista de Administração de Empresasinstname:Fundação Getulio Vargas (FGV)instacron:FGVporhttps://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470/37210Teixeira, Francisco Lima C.info:eu-repo/semantics/openAccess2016-08-18T12:16:01Zoai:bibliotecadigital.fgv.br:article/38470Revistahttps://rae.fgv.br/raeONGhttps://old.scielo.br/oai/scielo-oai.phprae@fgv.br||ilda.fontes@fgv.br||raeredacao@fgv.br2178-938X0034-7590opendoar:2016-08-18T12:16:01Revista de Administração de Empresas - Fundação Getulio Vargas (FGV)false
dc.title.none.fl_str_mv Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
title Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
spellingShingle Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
Teixeira, Francisco Lima C.
Microeletronic
difusion
continuous process industries
Microeletrônica
difusão
processo-contínuo
title_short Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
title_full Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
title_fullStr Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
title_full_unstemmed Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
title_sort Difusão da tecnologia de base microeletrônica na indústria de processo contínuo
author Teixeira, Francisco Lima C.
author_facet Teixeira, Francisco Lima C.
author_role author
dc.contributor.author.fl_str_mv Teixeira, Francisco Lima C.
dc.subject.por.fl_str_mv Microeletronic
difusion
continuous process industries
Microeletrônica
difusão
processo-contínuo
topic Microeletronic
difusion
continuous process industries
Microeletrônica
difusão
processo-contínuo
description The objective of this paper is to present and discuss some data and information about the diffusion process of microeletronic technology in the continuous process industry in Brazil. The data presented show the high level of diffusion of this technology in relation to the discrete parts manufacturing industry. The base installed in Brazil is proportionally larger than those of industrialized countries. The decision to adopt the microelectronic technology in this industry is strongly influenced by variables of "sócio-institutional" nature, as the technical and economic information are not always promptly available. Among the "socio-instuutional" variables analysed, the impact of the market reserve policy on the diffusion process is given special attention.
publishDate 1992
dc.date.none.fl_str_mv 1992-11-01
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470
url https://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv https://bibliotecadigital.fgv.br/ojs/index.php/rae/article/view/38470/37210
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv RAE - Revista de Administracao de Empresas
RAE - Revista de Administração de Empresas
RAE-Revista de Administração de Empresas
publisher.none.fl_str_mv RAE - Revista de Administracao de Empresas
RAE - Revista de Administração de Empresas
RAE-Revista de Administração de Empresas
dc.source.none.fl_str_mv RAE - Revista de Administracao de Empresas ; Vol. 32 No. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-26
RAE - Revista de Administração de Empresas; Vol. 32 Núm. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-26
RAE-Revista de Administração de Empresas; v. 32 n. 5 (1992): novembro-dezembro; 16-26
2178-938X
0034-7590
reponame:Revista de Administração de Empresas
instname:Fundação Getulio Vargas (FGV)
instacron:FGV
instname_str Fundação Getulio Vargas (FGV)
instacron_str FGV
institution FGV
reponame_str Revista de Administração de Empresas
collection Revista de Administração de Empresas
repository.name.fl_str_mv Revista de Administração de Empresas - Fundação Getulio Vargas (FGV)
repository.mail.fl_str_mv rae@fgv.br||ilda.fontes@fgv.br||raeredacao@fgv.br
_version_ 1766160823182426112