PROPRIEDADES ELÉTRICAS DE BaTiO3 DOPADO COM SiO2 E Bi2O3
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Data de Publicação: | 2011 |
Outros Autores: | , |
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Título da fonte: | Holos |
Texto Completo: | http://www2.ifrn.edu.br/ojs/index.php/HOLOS/article/view/623 |
Resumo: | O objetivo deste trabalho é estudar a influência da adição de óxido de silício (SiO2) e óxido de bismuto (Bi2O3) sobre as propriedades elétricas e dielétricas do titanato de bário. As amostras com diferentes percentuais de óxidos de silício e bismuto foram misturadas com BaTiO3 em um moinho de bolas planetário e sinterizadas a 1250 oC no ar. Medidas de resistência elétrica e constante dielétrica foram realizadas na faixa de temperatura de 28 a 225 oC. As amostras que apresentaram os melhores resultados também foram analisadas por meio de microscopia eletrônica de varredura. Os resultados mostraram um forte efeito dos aditivos sobre as propriedades elétricas do titanato de bário. As amostras dopadas com 4% mol SiO2 e 0,25% mol Bi2O3 deram os melhores resultados, mostrando um aumento significativo da constante dielétrica, devido a uma diminuição no tamanho do grão matriz. |
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PROPRIEDADES ELÉTRICAS DE BaTiO3 DOPADO COM SiO2 E Bi2O3O objetivo deste trabalho é estudar a influência da adição de óxido de silício (SiO2) e óxido de bismuto (Bi2O3) sobre as propriedades elétricas e dielétricas do titanato de bário. As amostras com diferentes percentuais de óxidos de silício e bismuto foram misturadas com BaTiO3 em um moinho de bolas planetário e sinterizadas a 1250 oC no ar. Medidas de resistência elétrica e constante dielétrica foram realizadas na faixa de temperatura de 28 a 225 oC. As amostras que apresentaram os melhores resultados também foram analisadas por meio de microscopia eletrônica de varredura. Os resultados mostraram um forte efeito dos aditivos sobre as propriedades elétricas do titanato de bário. As amostras dopadas com 4% mol SiO2 e 0,25% mol Bi2O3 deram os melhores resultados, mostrando um aumento significativo da constante dielétrica, devido a uma diminuição no tamanho do grão matriz.Instituto Federal de Educação, Ciência e Tecnologia do Rio Grande do Norte2011-09-26info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionapplication/pdfhttp://www2.ifrn.edu.br/ojs/index.php/HOLOS/article/view/62310.15628/holos.2011.623HOLOS; v. 4 (2011); 128-1361807-1600reponame:Holosinstname:Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)instacron:IFRNporhttp://www2.ifrn.edu.br/ojs/index.php/HOLOS/article/view/623/467Copyright (c) 2016 HOLOSinfo:eu-repo/semantics/openAccessSales, Fábio Henrique SilvaAcchar, Wilsonda Costa, José Alzamir Pereira2022-05-01T20:43:35Zoai:holos.ifrn.edu.br:article/623Revistahttp://www2.ifrn.edu.br/ojs/index.php/HOLOSPUBhttp://www2.ifrn.edu.br/ojs/index.php/HOLOS/oaiholos@ifrn.edu.br||jyp.leite@ifrn.edu.br||propi@ifrn.edu.br1807-16001518-1634opendoar:2022-05-01T20:43:35Holos - Instituto Federal do Rio Grande do Norte (IFRN)false |
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