Caracteriza????o morfol??gica de filmes de TiO2 dopados com nitrog??nio crescidos por MOCVD

• Autor(a) principal: OLIVEIRA, E.C. de
• Data de Publicação: 2020
• Outros Autores: CORREA, O.V., BENTO, R.T., COTINHO, S.P., SANTOS, T.F. dos, PILLIS, M.F., CONGRESSO BRASILEIRO DE QU??MICA, 59.
• Tipo de documento: Artigo de conferência
• Título da fonte: Repositório Institucional do IPEN
• Texto Completo: http://repositorio.ipen.br/handle/123456789/30959

O m??todo de deposi????o qu??mica de organomet??licos em fase vapor (MOCVD) foi utilizado para o crescimento de filmes de di??xido de tit??nio (TiO2) e TiO2 dopado com nitrog??nio. Os filmes foram crescidos a 400 ??C sobre substratos de vidro borossilicato. Isoprop??xido de tit??nio IV foi utilizado como precursor de tit??nio e de oxig??nio, e am??nia (NH3) como fonte de nitrog??nio. An??lises por microscopia de for??a at??mica (AFM) mostraram que ambos os filmes apresentaram gr??os bem definidos e arredondados. Todos os filmes s??o formados apenas pela fase cristalina anatase. Os resultados mostraram que a dopagem com nitrog??nio resultou em uma diminui????o no tamanho m??dio de gr??o e na rugosidade superficial.