INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
Data de Publicação: 2003
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)
Texto Completo: https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
Resumo: Filmes de carbono amorfo hidrogenados, (a - C: H) e nitrogenados,) ( a - C: H(N) - depositados pela técnica Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) em atmosferas de metano e metano-nitrogênio foram submetidos a tratamento em plasmas de N2. A influência de vários parâmetros foi investigada: a pressão da câmara, tensão de autopolarização e tempo de exposição. A taxa de erosão determinada por perfilometria. A taxa aumenta com a tensão e tende a saturar-se para altas pressões. A incorporação de nitrogênio foi medida por reação nuclear. O resultado indica um decréscimo no conteúdo de N com o aumento da tensão de autopolarização e pode ser explicado pelo aumento da erosão química e física. As ligações químicas foram analisadas por XPS e dois ambiente podem ser identificados: um com átomos de N rodeado por átomos de C e o outro com átomos N ligado ao H. A modificação da rugosidade da superfície e coeficiente de atrito foi caracterizada por Microscopia de Força Atômica (AFM). A rugosidade da superfície é independente do valores de autopolarização, quando o coeficiente de atrito decresce com o aumento da tensão de autopolarização.
id PUC_RIO-1_c59b8b8b0c373cc3362033bcda281c88
oai_identifier_str oai:MAXWELL.puc-rio.br:3884
network_acronym_str PUC_RIO-1
network_name_str Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)
repository_id_str 534
spelling info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisINCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY 2003-07-22FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR53961722749lattes.cnpq.br/7921830556715768FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIORGILSON BRAND BAPTISTADANTE FERREIRA FRANCESCHINI FILHOVICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZAPONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIROPPG EM FÍSICAPUC-RioBRFilmes de carbono amorfo hidrogenados, (a - C: H) e nitrogenados,) ( a - C: H(N) - depositados pela técnica Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) em atmosferas de metano e metano-nitrogênio foram submetidos a tratamento em plasmas de N2. A influência de vários parâmetros foi investigada: a pressão da câmara, tensão de autopolarização e tempo de exposição. A taxa de erosão determinada por perfilometria. A taxa aumenta com a tensão e tende a saturar-se para altas pressões. A incorporação de nitrogênio foi medida por reação nuclear. O resultado indica um decréscimo no conteúdo de N com o aumento da tensão de autopolarização e pode ser explicado pelo aumento da erosão química e física. As ligações químicas foram analisadas por XPS e dois ambiente podem ser identificados: um com átomos de N rodeado por átomos de C e o outro com átomos N ligado ao H. A modificação da rugosidade da superfície e coeficiente de atrito foi caracterizada por Microscopia de Força Atômica (AFM). A rugosidade da superfície é independente do valores de autopolarização, quando o coeficiente de atrito decresce com o aumento da tensão de autopolarização.Amorphous Hydrogenated carbon films (a - C: H) and nitrogenated films ) (a - C: H(N) - deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition in 4 CH and CH4-N2 atmospheres were submitted to nitrogen r.f.- plasma treatment. The influence of several parameters was investigated: the chamber pressure, the self-bias voltage and the exposure time. The erosion rate was determined by profilometry. It increases as the self-bias increases and tends to saturate for higher pressures. The nitrogen incorporated in the films was measured by nuclear reation analysis. The results indicate a decrease in the N content a the self-bias increase that can be atributted toen increase of the sputtering yield. The chemical bonds were probed by XPS and two chemical environments can be identified, one with N atoms surrounded by C atoms and the other one with N atoms binding to H. Surface roughness and friction coefficient modifications were followed by atomic force and lateral force microscopies. The surface roughness is independent on the value of the self-bias voltage, while the friction coefficient slightly decreases.CONSELHO NACIONAL DE DESENVOLVIMENTO CIENTÍFICO E TECNOLÓGICOhttps://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2porreponame:Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)instname:Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RIO)instacron:PUC_RIOinfo:eu-repo/semantics/openAccess2022-11-01T12:37:15Zoai:MAXWELL.puc-rio.br:3884Repositório InstitucionalPRIhttps://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/ibict.phpopendoar:5342017-09-14T00:00Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell) - Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RIO)false
dc.title.pt.fl_str_mv INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
dc.title.alternative.en.fl_str_mv SUPERFICIAL INCORPORATION OF NITROGEN IN FILM DLC TREATED IN PLASMA OF RADIO FREQUENCY
title INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
spellingShingle INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
title_short INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
title_full INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
title_fullStr INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
title_full_unstemmed INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
title_sort INCORPORAÇÃO SUPERFICIAL DE NITROGÊNIO EM FILMES DLC TRATADOS EM PLASMA DE RADIO FREQÜÊNCIA
dc.creator.ID.none.fl_str_mv
dc.creator.Lattes.none.fl_str_mv
author VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
author_facet VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
author_role author
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR
dc.contributor.advisor1ID.fl_str_mv 53961722749
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv lattes.cnpq.br/7921830556715768
dc.contributor.referee1.fl_str_mv FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR
dc.contributor.referee2.fl_str_mv GILSON BRAND BAPTISTA
dc.contributor.referee3.fl_str_mv DANTE FERREIRA FRANCESCHINI FILHO
dc.contributor.author.fl_str_mv VICENTE AGUSTIN ATOCHE ESPINOZA
contributor_str_mv FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR
FERNANDO LAZARO FREIRE JUNIOR
GILSON BRAND BAPTISTA
DANTE FERREIRA FRANCESCHINI FILHO
description Filmes de carbono amorfo hidrogenados, (a - C: H) e nitrogenados,) ( a - C: H(N) - depositados pela técnica Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) em atmosferas de metano e metano-nitrogênio foram submetidos a tratamento em plasmas de N2. A influência de vários parâmetros foi investigada: a pressão da câmara, tensão de autopolarização e tempo de exposição. A taxa de erosão determinada por perfilometria. A taxa aumenta com a tensão e tende a saturar-se para altas pressões. A incorporação de nitrogênio foi medida por reação nuclear. O resultado indica um decréscimo no conteúdo de N com o aumento da tensão de autopolarização e pode ser explicado pelo aumento da erosão química e física. As ligações químicas foram analisadas por XPS e dois ambiente podem ser identificados: um com átomos de N rodeado por átomos de C e o outro com átomos N ligado ao H. A modificação da rugosidade da superfície e coeficiente de atrito foi caracterizada por Microscopia de Força Atômica (AFM). A rugosidade da superfície é independente do valores de autopolarização, quando o coeficiente de atrito decresce com o aumento da tensão de autopolarização.
publishDate 2003
dc.date.issued.fl_str_mv 2003-07-22
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
url https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@1
https://www.maxwell.vrac.puc-rio.br/colecao.php?strSecao=resultado&nrSeq=3884@2
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO
dc.publisher.program.fl_str_mv PPG EM FÍSICA
dc.publisher.initials.fl_str_mv PUC-Rio
dc.publisher.country.fl_str_mv BR
publisher.none.fl_str_mv PONTIFÍCIA UNIVERSIDADE CATÓLICA DO RIO DE JANEIRO
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)
instname:Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RIO)
instacron:PUC_RIO
instname_str Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RIO)
instacron_str PUC_RIO
institution PUC_RIO
reponame_str Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)
collection Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell)
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da PUC-RIO (Projeto Maxwell) - Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro (PUC-RIO)
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1748324876656050176

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