Otimização dos parâmetros de crescimento do diamante CVD para aplicação em biossensores óticos

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Felício, Leandro da Rocha
Data de Publicação: 2022
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10773/36009
Resumo: Foi estudada a deposição e o crescimento do filme de diamante policristalino dopado com Boro, produzido através do método de HFCVD (Hot fillament chemical vapor deposition). O diamante é um material que apresenta um bom conjunto de propriedades físicas e químicas, das quais se destacam a dureza, a transparência ótica, a estabilidade química, a condutividade variável consoante a dopagem e a biocompatibilidade. Estas propriedades fazem com que este seja um material desejável para deposição por HFCVD. Os filmes foram caracterizados através de microscopia de varrimento, espectroscopia de Raman, difração de raio-x, Perfilometria e espectroscopia de infravermelho e UV-Vis. Os filmes foram analisados em termos de taxa de crescimento, FOM, largura a meia altura, razão [111]/[220], rugosidade, atenuação e resistividade. Conclui-se que cada um destes parâmetros apresenta um conjunto de fatores de Taguchi diferentes para obtenção do melhor resultado e unindo estes, para obter melhor filme teoricamente possível obteve-se o seguinte conjunto de valores: 4% CH4/H2, 30 mbar de pressão, 50% de boro e entre a 15 a 20 sccm de Árgon.
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