Modelos computacionais para monitorizar variações na interface osso-implante em implantes instrumentados

• Autor(a) principal: Videira, Dora José Ramos
• Data de Publicação: 2021
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
• Texto Completo: http://hdl.handle.net/10773/31403
• topic: Implante instrumentado; Modelos computacionais; Estimulação capacitiva; Campo elétrico; Osseointegração; Descolamento assético

A cirurgia de substituição de articulações encontra-se entre os procedimentos cirúrgicos mais realizados a nível mundial. De modo a evitar as cirurgias de revisão, surgiu o conceito de implante instrumentado que se encontra em crescente evolução científica, evidenciando já em estudos anteriores resulta dos promissores quanto à estimulação da regeneração óssea peri-implantar e à monitorização da fixação osso-implante. O principal objetivo deste estudo é analisar computacionalmente os estímulos elétricos, aplicados por sistemas de estimulação capacitiva planar, em estruturas trabeculares. Os resultados mostram variações na gama 0-0,8156 V/mm para estados de descolamento entre 0 e 1 mm, dependendo da zona óssea, dos parâmetros aplicados, assim como do estado de fixação osso-implate. Foram observadas correlações superiores a 98% entre as várias curvas dos resultados obtidos relativas às diferentes estimulações elétricas estudadas. Os resultados obtidos foram comparados com estudos in vitro e in vivo de estimulação capacitiva, sendo que se denotaram resultados promissores à estimulação do osso. Os sistemas capacitivos, para além de poderem operar como atuadores terapêuticos, podem também ser usados como sistemas de monitorização. Como tal, compararam-se ainda os resultados da capacidade elétrica obtidos no modelo computacional com os resultados obtidos em ensaios experimentais num trabalho precedente. Enquanto que, nos modelos computacionais os valores obtidos se encontram numa gama entre 0,9829 e 1,2384 pF, os experimentais variam entre 2,5112 e 2,5829 pF, considerando as mesmas condições da interface. Ao normalizar estes resultados, verifica-se um erro de cerca de 9,89% entre as curvas. Este estudo apresenta resultados favoráveis à estimulação e monitorização de diferentes interfaces osso-implante, e, por isso, o seu desempenho deve ser estudado para a sua futura integração em implantes ativos instrumentado