The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Gali Chandra
Data de Publicação: 2011
Outros Autores: Javier Cruz, J. Ventura
Tipo de documento: Artigo
Idioma: eng
Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
Texto Completo: http://repositorio.inesctec.pt/handle/123456789/2087
id RCAP_e0897a132da7fc74148c6b641fde6b7c
oai_identifier_str oai:repositorio.inesctec.pt:123456789/2087
network_acronym_str RCAP
network_name_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository_id_str 7160
spelling The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films2017-11-16T13:11:59Z2011-01-01T00:00:00Z2011info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/articleapplication/pdfhttp://repositorio.inesctec.pt/handle/123456789/2087engGali ChandraJavier CruzJ. Venturainfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãoinstacron:RCAAP2023-05-15T10:20:46Zoai:repositorio.inesctec.pt:123456789/2087Portal AgregadorONGhttps://www.rcaap.pt/oai/openaireopendoar:71602024-03-19T17:53:36.379382Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informaçãofalse
dc.title.none.fl_str_mv The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
title The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
spellingShingle The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
Gali Chandra
title_short The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
title_full The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
title_fullStr The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
title_full_unstemmed The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
title_sort The influence of argon pressure and RF power on the growth of InP thin films
author Gali Chandra
author_facet Gali Chandra
Javier Cruz
J. Ventura
author_role author
author2 Javier Cruz
J. Ventura
author2_role author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Gali Chandra
Javier Cruz
J. Ventura
publishDate 2011
dc.date.none.fl_str_mv 2011-01-01T00:00:00Z
2011
2017-11-16T13:11:59Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://repositorio.inesctec.pt/handle/123456789/2087
url http://repositorio.inesctec.pt/handle/123456789/2087
dc.language.iso.fl_str_mv eng
language eng
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
instname:Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron:RCAAP
instname_str Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
instacron_str RCAAP
institution RCAAP
reponame_str Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
collection Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
repository.name.fl_str_mv Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos) - Agência para a Sociedade do Conhecimento (UMIC) - FCT - Sociedade da Informação
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1799131609824231424

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