Estudo das propriedades estruturais e ópticas de filmes cerâmicos da família PZT do tipo perovsquite

• Autor(a) principal: Lobo, Augusto César Gonçalves
• Data de Publicação: 2003
• Tipo de documento: Dissertação
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Científico de Acesso Aberto de Portugal (Repositórios Cientìficos)
• Texto Completo: http://hdl.handle.net/1822/793
• topic: PZTN; Ablação laser; Propriedades físicas; Caracterização estrutural; Propriedades ópticas; Raio-X; PZTN; Laser ablation; Physical properties; Structural characterization; Optical properties; X-ray; Profilometry; Raman spectroscopy

Neste trabalho apresenta-se uma caracterização experimental do material cerâmico ferroeléctrico PZTN, produzido sob a forma de filme sobre um substrato de silício (111), utilizando a técnica de ablação por laser pulsado. A caracterização é feita em função de vários parâmetros, tais como: composição do alvo, pressão de vácuo e a emperatura do substrato durante a deposição. As técnicas de caracterização utilizadas são: difractometria de raios-X (XRD); espectrofotometria óptica de transmissão e reflectância, na gama (NIR-VIS-NUV), isto é, do ultra-violeta próximo ao infravermelho próximo; perfilometria e espectroscopia Raman. A partir dos resultados de raio-X obtém-se os parâmetros estruturais, a e α, as fases presentes perovsquite e pirocloro) e uma estimativa do tamanho das cristalites. Calculam-se as tensões internas do material, a partir de resultados de difractometria de raios-x, em função dos ângulos Ψ e θ. Os resultados obtidos por perfilometria permitem obter os valores da espessura dos filmes, bem como a rugosidade dos mesmos. A espectroscopia Raman permite confirmar a fase cristalográfica dos filmes, entre as fases ferroeléctrica tetragonal e ferroeléctrica romboédrica. As medidas de reflectância óptica permitem determinar o índice de refracção dos filmes e obter uma estimativa da sua espessura.