Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Sousa,José Hugo de Aguiar
Data de Publicação: 2015
Outros Autores: Maia Junior,Paulo Herbert França, Silva,Álvaro Neuton de Araújo, Lima,Francisco Marcone, Oliveira,Francisco Wendel Cipriano de, Magalhães,Rafael Aragão, Freire,Francisco Nivaldo Aguiar, Silva,Emerson Mariano da
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Matéria (Rio de Janeiro. Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762015000400866
Resumo: RESUMO A eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KClsat, com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n.
id RLAM-1_dd2f2d7329a640f35253b7c629ef1ef8
oai_identifier_str oai:scielo:S1517-70762015000400866
network_acronym_str RLAM-1
network_name_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository_id_str
spelling Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácidoFilme finos de CdTeEletrodeposiçãoPlatinaRESUMO A eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KClsat, com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n.Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiroem cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH22015-12-01info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersiontext/htmlhttp://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762015000400866Matéria (Rio de Janeiro) v.20 n.4 2015reponame:Matéria (Rio de Janeiro. Online)instname:Matéria (Rio de Janeiro. Online)instacron:RLAM10.1590/S1517-707620150004.0093info:eu-repo/semantics/openAccessSousa,José Hugo de AguiarMaia Junior,Paulo Herbert FrançaSilva,Álvaro Neuton de AraújoLima,Francisco MarconeOliveira,Francisco Wendel Cipriano deMagalhães,Rafael AragãoFreire,Francisco Nivaldo AguiarSilva,Emerson Mariano dapor2015-12-17T00:00:00Zoai:scielo:S1517-70762015000400866Revistahttp://www.materia.coppe.ufrj.br/https://old.scielo.br/oai/scielo-oai.php||materia@labh2.coppe.ufrj.br1517-70761517-7076opendoar:2015-12-17T00:00Matéria (Rio de Janeiro. Online) - Matéria (Rio de Janeiro. Online)false
dc.title.none.fl_str_mv Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
title Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
spellingShingle Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
Sousa,José Hugo de Aguiar
Filme finos de CdTe
Eletrodeposição
Platina
title_short Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
title_full Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
title_fullStr Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
title_full_unstemmed Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
title_sort Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido
author Sousa,José Hugo de Aguiar
author_facet Sousa,José Hugo de Aguiar
Maia Junior,Paulo Herbert França
Silva,Álvaro Neuton de Araújo
Lima,Francisco Marcone
Oliveira,Francisco Wendel Cipriano de
Magalhães,Rafael Aragão
Freire,Francisco Nivaldo Aguiar
Silva,Emerson Mariano da
author_role author
author2 Maia Junior,Paulo Herbert França
Silva,Álvaro Neuton de Araújo
Lima,Francisco Marcone
Oliveira,Francisco Wendel Cipriano de
Magalhães,Rafael Aragão
Freire,Francisco Nivaldo Aguiar
Silva,Emerson Mariano da
author2_role author
author
author
author
author
author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Sousa,José Hugo de Aguiar
Maia Junior,Paulo Herbert França
Silva,Álvaro Neuton de Araújo
Lima,Francisco Marcone
Oliveira,Francisco Wendel Cipriano de
Magalhães,Rafael Aragão
Freire,Francisco Nivaldo Aguiar
Silva,Emerson Mariano da
dc.subject.por.fl_str_mv Filme finos de CdTe
Eletrodeposição
Platina
topic Filme finos de CdTe
Eletrodeposição
Platina
description RESUMO A eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KClsat, com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n.
publishDate 2015
dc.date.none.fl_str_mv 2015-12-01
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762015000400866
url http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1517-70762015000400866
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv 10.1590/S1517-707620150004.0093
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv text/html
dc.publisher.none.fl_str_mv Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiro
em cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH2
publisher.none.fl_str_mv Laboratório de Hidrogênio, Coppe - Universidade Federal do Rio de Janeiro
em cooperação com a Associação Brasileira do Hidrogênio, ABH2
dc.source.none.fl_str_mv Matéria (Rio de Janeiro) v.20 n.4 2015
reponame:Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instname:Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instacron:RLAM
instname_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
instacron_str RLAM
institution RLAM
reponame_str Matéria (Rio de Janeiro. Online)
collection Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository.name.fl_str_mv Matéria (Rio de Janeiro. Online) - Matéria (Rio de Janeiro. Online)
repository.mail.fl_str_mv ||materia@labh2.coppe.ufrj.br
_version_ 1752126688884424704