Cálculo da taxa de ionização por campo de um átomo próximo a uma superfície metálica: aplicação ao microscópio iônico de campo

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Silva,Ariel Almeida Abreu
Data de Publicação: 2012
Outros Autores: Andrade-Neto,A.V.
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Revista Brasileira de Ensino de Física (Online)
Texto Completo: http://old.scielo.br/scielo.php?script=sci_arttext&pid=S1806-11172012000100004
Resumo: Neste trabalho calculamos a taxa de ionização (probabilidade de ionização por unidade de tempo) para um átomo póximo a uma superficie metálica submetido a um campo elétrico uniforme. A probabilidade de penetração da barreira é calculada usando a aproximação WKB. Utilizando-se um modelo simples para a energia potencial do elétron externo do átomo, mas que contém as características física principais do problema, obtem-se uma expressão analítica para a taxa de ionização em função da distância átomo-superfície. Apresenta-se também de forma introdutória os princípios básicos de funcionamento do microscópio iônico de campo.
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