Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2009 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UCS |
Texto Completo: | https://repositorio.ucs.br/handle/11338/395 |
Resumo: | Neste trabalho foi investigada experimentalmente a nitretação da zircônia parcialmente estabilizada com ítria em um plasma de micro-ondas à pressão atmosférica. As características morfológicas, mecânicas e físico-químicas da camada resultante do processo de nitretação a plasma foram analisadas por diferentes métodos, tais como microscopia óptica e eletrônica de varredura, microdureza, difração de raios X, perfilometria química elementar por reação nuclear ressonante, por espectrometria de massas de espécies secundárias neutras e análise química composicional por espectroscopia de fotoelétrons induzidos por raios X. A estrutura da camada nitretada a plasma é complexa, sendo composta de zircônia tetragonal e cúbica, bem como de nitreto e oxinitreto de zircônio. A taxa de crescimento da camada nitretada foi de aproximadamente 4 μm min-1, muito maior do que as obtidas por qualquer outro método relatado na literatura, enquanto que a dureza teve um aumento típico da ordem de 50% em relação à dureza da zircônia parcialmente estabilizada com ítria. A adesão da camada nitretada ao substrato de zircônia é assegurada pelo fato que a camada de ZrN cresce à partir do substrato por um mecanismo ativado termicamente, mediante o qual átomos de N substituem átomos de O na matriz da zircônia. |
id |
UCS_c11d4f32e731978557e3ac761a2e2501 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:repositorio.ucs.br:11338/395 |
network_acronym_str |
UCS |
network_name_str |
Repositório Institucional da UCS |
repository_id_str |
|
spelling |
Milani, RaquelZorzi, Janete Eunice2014-05-23T18:50:00Z2014-05-23T18:50:00Z2014-05-232009-05-05https://repositorio.ucs.br/handle/11338/395Neste trabalho foi investigada experimentalmente a nitretação da zircônia parcialmente estabilizada com ítria em um plasma de micro-ondas à pressão atmosférica. As características morfológicas, mecânicas e físico-químicas da camada resultante do processo de nitretação a plasma foram analisadas por diferentes métodos, tais como microscopia óptica e eletrônica de varredura, microdureza, difração de raios X, perfilometria química elementar por reação nuclear ressonante, por espectrometria de massas de espécies secundárias neutras e análise química composicional por espectroscopia de fotoelétrons induzidos por raios X. A estrutura da camada nitretada a plasma é complexa, sendo composta de zircônia tetragonal e cúbica, bem como de nitreto e oxinitreto de zircônio. A taxa de crescimento da camada nitretada foi de aproximadamente 4 μm min-1, muito maior do que as obtidas por qualquer outro método relatado na literatura, enquanto que a dureza teve um aumento típico da ordem de 50% em relação à dureza da zircônia parcialmente estabilizada com ítria. A adesão da camada nitretada ao substrato de zircônia é assegurada pelo fato que a camada de ZrN cresce à partir do substrato por um mecanismo ativado termicamente, mediante o qual átomos de N substituem átomos de O na matriz da zircônia.High temperature plasma nitriding of yttria-partially stabilized zirconia in atmospheric pressure microwave plasma was investigated. The morphological, mechanical and physico-chemical characteristics of the resulting nitrided layer were characterized by different methods, like optical and scanning electron microscopy, micro-indentation, X-ray diffraction, narrow resonant nuclear reaction profiling, secondary neutral mass spectrometry, and X-ray photoelectron spectroscopy, aiming at investigating the applicability of this highly efficient process for nitriding of ceramics. The structure of the plasma nitrided layer was found to be complex, composed of tetragonal and cubic zirconia, as well as zirconium nitride and oxynitride. The growth rate of the nitrided layer, ~ 4 μm min-1, is much higher than that obtained by any other previous nitriding process, whereas a typical 50% increase in Vickers hardness over that of yttria-partially stabilized zirconia was observed. The adherence of the nitrided layer to the zirconia substrate is assured by the fact that the ZrN layer grows from the substrate through a thermally activated mechanism whereby N atoms replace O atoms in the zirconia network.EngenhariaÓxido de zircônioÍtrioTestes de materiaisNitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizadainfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisporreponame:Repositório Institucional da UCSinstname:Universidade de Caxias do Sul (UCS)instacron:UCSinfo:eu-repo/semantics/openAccessUniversidade de Caxias do Sulhttp://lattes.cnpq.br/1091603089358780MILANI, R.Programa de Pós-Graduação de Mestrado em MateriaisTEXTDissertacao Raquel Milani.pdf.txtDissertacao Raquel Milani.pdf.txtExtracted texttext/plain139640https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/3/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf.txt7bdd832f0de45c42ce2144ec104b85c3MD53THUMBNAILDissertacao Raquel Milani.pdf.jpgDissertacao Raquel Milani.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1283https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/4/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf.jpgac91230773191407e0c117a2607b8cf0MD54ORIGINALDissertacao Raquel Milani.pdfDissertacao Raquel Milani.pdfapplication/pdf3213741https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/1/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf39678ad630a0c689b341c16c6926e37bMD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-8279https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/2/license.txtdeeb8fa550aaa0758114cbdeb0c0955dMD5211338/3952018-08-17 06:05:44.933oai:repositorio.ucs.br:11338/395IERlY2xhcmEgcXVlIG8gZG9jdW1lbnRvIGVudHJlZ3VlIMOpIHNldSB0cmFiYWxobyBvcmlnaW5hbCwgZSBxdWUgZGV0w6ltIG8gZGlyZWl0byBkZSBjb25jZWRlciBvcyBkaXJlaXRvcyBjb250aWRvcyBuZXN0YSBsaWNlbsOnYS4gCiBEZWNsYXJhIHRhbWLDqW0gcXVlIGEgZW50cmVnYSBkbyBkb2N1bWVudG8gbsOjbyBpbmZyaW5nZSwgdGFudG8gcXVhbnRvIGxoZSDDqSBwb3Nzw612ZWwgc2FiZXIsIG9zIGRpcmVpdG9zIGRlIHF1YWxxdWVyIG91dHJhIHBlc3NvYSBvdSBlbnRpZGFkZS4KRepositório de Publicaçõeshttp://repositorio.ucs.br/oai/requestopendoar:2018-08-17T06:05:44Repositório Institucional da UCS - Universidade de Caxias do Sul (UCS)false |
dc.title.pt_BR.fl_str_mv |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
title |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
spellingShingle |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada Milani, Raquel Engenharia Óxido de zircônio Ítrio Testes de materiais |
title_short |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
title_full |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
title_fullStr |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
title_full_unstemmed |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
title_sort |
Nitretação a plasma de zircônia parcialmente estabilizada |
author |
Milani, Raquel |
author_facet |
Milani, Raquel |
author_role |
author |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Milani, Raquel |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Zorzi, Janete Eunice |
contributor_str_mv |
Zorzi, Janete Eunice |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Engenharia Óxido de zircônio Ítrio Testes de materiais |
topic |
Engenharia Óxido de zircônio Ítrio Testes de materiais |
description |
Neste trabalho foi investigada experimentalmente a nitretação da zircônia parcialmente estabilizada com ítria em um plasma de micro-ondas à pressão atmosférica. As características morfológicas, mecânicas e físico-químicas da camada resultante do processo de nitretação a plasma foram analisadas por diferentes métodos, tais como microscopia óptica e eletrônica de varredura, microdureza, difração de raios X, perfilometria química elementar por reação nuclear ressonante, por espectrometria de massas de espécies secundárias neutras e análise química composicional por espectroscopia de fotoelétrons induzidos por raios X. A estrutura da camada nitretada a plasma é complexa, sendo composta de zircônia tetragonal e cúbica, bem como de nitreto e oxinitreto de zircônio. A taxa de crescimento da camada nitretada foi de aproximadamente 4 μm min-1, muito maior do que as obtidas por qualquer outro método relatado na literatura, enquanto que a dureza teve um aumento típico da ordem de 50% em relação à dureza da zircônia parcialmente estabilizada com ítria. A adesão da camada nitretada ao substrato de zircônia é assegurada pelo fato que a camada de ZrN cresce à partir do substrato por um mecanismo ativado termicamente, mediante o qual átomos de N substituem átomos de O na matriz da zircônia. |
publishDate |
2009 |
dc.date.submitted.none.fl_str_mv |
2009-05-05 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2014-05-23T18:50:00Z |
dc.date.available.fl_str_mv |
2014-05-23T18:50:00Z |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2014-05-23 |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
https://repositorio.ucs.br/handle/11338/395 |
url |
https://repositorio.ucs.br/handle/11338/395 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Repositório Institucional da UCS instname:Universidade de Caxias do Sul (UCS) instacron:UCS |
instname_str |
Universidade de Caxias do Sul (UCS) |
instacron_str |
UCS |
institution |
UCS |
reponame_str |
Repositório Institucional da UCS |
collection |
Repositório Institucional da UCS |
bitstream.url.fl_str_mv |
https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/3/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf.txt https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/4/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf.jpg https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/1/Dissertacao%20Raquel%20Milani.pdf https://repositorio.ucs.br/xmlui/bitstream/11338/395/2/license.txt |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
7bdd832f0de45c42ce2144ec104b85c3 ac91230773191407e0c117a2607b8cf0 39678ad630a0c689b341c16c6926e37b deeb8fa550aaa0758114cbdeb0c0955d |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 MD5 MD5 MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Repositório Institucional da UCS - Universidade de Caxias do Sul (UCS) |
repository.mail.fl_str_mv |
|
_version_ |
1798308870600261632 |