Análise de cobertura de metal-metal por XRF
Autor(a) principal: | |
---|---|
Data de Publicação: | 2011 |
Tipo de documento: | Dissertação |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ |
Texto Completo: | http://www.bdtd.uerj.br/handle/1/7997 |
Resumo: | The proposal concerning the study was to measure the thickness of the deposit of a basemetal into another metal, ie, using the electrochemical processes of the electroplating orelectrodeposition of this metal, through the technique of X-ray fluorescence (XRF). The use of this technique was justified by the interest in reducing the excessive costs during the electrochemical process, as well as minimize the possible margins of error to obtain satisfactory results in the measures. In this paper, we include measures of the thickness of the nickel (Ni) and analysis of radiation mitigation and radiation incidents, according to the thickness of the elements Chromium (Cr) and zinc (Zn), taking as base metal element iron (Fe). As a result, in all cases were simulated processes of metal deposition which included the results of X-ray absorption, and neglect the influence of other factors such as temperature, pH, surface treatment, among others, which are necessary to consider in each case. |
id |
UERJ_508ec9e7be3db87fa35c78bc8cd2fe96 |
---|---|
oai_identifier_str |
oai:www.bdtd.uerj.br:1/7997 |
network_acronym_str |
UERJ |
network_name_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ |
repository_id_str |
2903 |
spelling |
Assis, Joaquim Teixeira dehttp://lattes.cnpq.br/7307238902576135Carvalho, Gil dehttp://lattes.cnpq.br/0430874882379489Jesus, Edgar Francisco Oliveira dehttp://lattes.cnpq.br/6432402450203234http://lattes.cnpq.br/8491207872569336Lima, Daniel Frota2021-01-05T18:30:16Z2012-07-112011-10-14LIMA, Daniel Frota. Análise de cobertura de metal-metal por XRF. 2011. 57 f. Dissertação (Mestrado em Materiais não-metálicos; Física e mecânica dos materiais) - Universidade do Estado do Rio de Janeiro, Nova Friburgo, 2011.http://www.bdtd.uerj.br/handle/1/7997The proposal concerning the study was to measure the thickness of the deposit of a basemetal into another metal, ie, using the electrochemical processes of the electroplating orelectrodeposition of this metal, through the technique of X-ray fluorescence (XRF). The use of this technique was justified by the interest in reducing the excessive costs during the electrochemical process, as well as minimize the possible margins of error to obtain satisfactory results in the measures. In this paper, we include measures of the thickness of the nickel (Ni) and analysis of radiation mitigation and radiation incidents, according to the thickness of the elements Chromium (Cr) and zinc (Zn), taking as base metal element iron (Fe). As a result, in all cases were simulated processes of metal deposition which included the results of X-ray absorption, and neglect the influence of other factors such as temperature, pH, surface treatment, among others, which are necessary to consider in each case.A proposta do referente estudo foi medir a espessura do depósito de um metal em outro metal base, ou seja, utilizar o processo eletroquímico de Galvanoplastia ou eletrodeposição deste metal, por meio da técnica de fluorescência de raios X (XRF). O uso desta técnica justificou-se pelo interesse em reduzir os custos excessivos durante o processo eletroquímico, bem como, minimizar as possíveis margens de erros para obter resultados satisfatórios nas medidas. Neste trabalho, incluíram-se as medidas da espessura do Níquel (Ni) e análises da intensidade de radiação incidentes e a radiação atenuante, em função da espessura dos elementos Cromo (Cr) e Zinco (Zn), considerando como metal base o elemento Ferro (Fe). Em decorrência disso, em todos os casos foram simulados os processos de deposição do metal onde foram incluídos os resultados de absorção de raios X, além de desprezar a influência de outros fatores como a temperatura, o pH, o tratamento de superfície, entre outros, os quais são necessários para considerar em cada caso.Submitted by Boris Flegr (boris@uerj.br) on 2021-01-05T18:30:16Z No. of bitstreams: 1 Dissertacao Daniel Frota Lima.pdf: 763763 bytes, checksum: 33adb0c2320cdad617e77f4760784d78 (MD5)Made available in DSpace on 2021-01-05T18:30:16Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Dissertacao Daniel Frota Lima.pdf: 763763 bytes, checksum: 33adb0c2320cdad617e77f4760784d78 (MD5) Previous issue date: 2011-10-14application/pdfporUniversidade do Estado do Rio de JaneiroPrograma de Pós-Graduação em Ciência e Tecnologia de MateriaisUERJBRCentro de Tecnologia e Ciências::Instituto PolitécnicoArtax 200Electrodeposition of metalX-Ray FluorescenceXMudat SoftwareArtax 200Eletrodeposição de metal. Fluorescência de raios XSoftware XMudatGalvanoplastiaCNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICAAnálise de cobertura de metal-metal por XRFAnalysis metal casing metal by XRFinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJinstname:Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ)instacron:UERJORIGINALDissertacao Daniel Frota Lima.pdfapplication/pdf763763http://www.bdtd.uerj.br/bitstream/1/7997/1/Dissertacao+Daniel+Frota+Lima.pdf33adb0c2320cdad617e77f4760784d78MD511/79972024-02-27 14:29:35.694oai:www.bdtd.uerj.br:1/7997Biblioteca Digital de Teses e Dissertaçõeshttp://www.bdtd.uerj.br/PUBhttps://www.bdtd.uerj.br:8443/oai/requestbdtd.suporte@uerj.bropendoar:29032024-02-27T17:29:35Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ - Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ)false |
dc.title.por.fl_str_mv |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
dc.title.alternative.eng.fl_str_mv |
Analysis metal casing metal by XRF |
title |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
spellingShingle |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF Lima, Daniel Frota Artax 200 Electrodeposition of metal X-Ray Fluorescence XMudat Software Artax 200 Eletrodeposição de metal. Fluorescência de raios X Software XMudat Galvanoplastia CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
title_short |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
title_full |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
title_fullStr |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
title_full_unstemmed |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
title_sort |
Análise de cobertura de metal-metal por XRF |
author |
Lima, Daniel Frota |
author_facet |
Lima, Daniel Frota |
author_role |
author |
dc.contributor.advisor1.fl_str_mv |
Assis, Joaquim Teixeira de |
dc.contributor.advisor1Lattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/7307238902576135 |
dc.contributor.referee1.fl_str_mv |
Carvalho, Gil de |
dc.contributor.referee1Lattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/0430874882379489 |
dc.contributor.referee2.fl_str_mv |
Jesus, Edgar Francisco Oliveira de |
dc.contributor.referee2Lattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/6432402450203234 |
dc.contributor.authorLattes.fl_str_mv |
http://lattes.cnpq.br/8491207872569336 |
dc.contributor.author.fl_str_mv |
Lima, Daniel Frota |
contributor_str_mv |
Assis, Joaquim Teixeira de Carvalho, Gil de Jesus, Edgar Francisco Oliveira de |
dc.subject.eng.fl_str_mv |
Artax 200 Electrodeposition of metal X-Ray Fluorescence XMudat Software |
topic |
Artax 200 Electrodeposition of metal X-Ray Fluorescence XMudat Software Artax 200 Eletrodeposição de metal. Fluorescência de raios X Software XMudat Galvanoplastia CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
dc.subject.por.fl_str_mv |
Artax 200 Eletrodeposição de metal. Fluorescência de raios X Software XMudat Galvanoplastia |
dc.subject.cnpq.fl_str_mv |
CNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA |
description |
The proposal concerning the study was to measure the thickness of the deposit of a basemetal into another metal, ie, using the electrochemical processes of the electroplating orelectrodeposition of this metal, through the technique of X-ray fluorescence (XRF). The use of this technique was justified by the interest in reducing the excessive costs during the electrochemical process, as well as minimize the possible margins of error to obtain satisfactory results in the measures. In this paper, we include measures of the thickness of the nickel (Ni) and analysis of radiation mitigation and radiation incidents, according to the thickness of the elements Chromium (Cr) and zinc (Zn), taking as base metal element iron (Fe). As a result, in all cases were simulated processes of metal deposition which included the results of X-ray absorption, and neglect the influence of other factors such as temperature, pH, surface treatment, among others, which are necessary to consider in each case. |
publishDate |
2011 |
dc.date.issued.fl_str_mv |
2011-10-14 |
dc.date.available.fl_str_mv |
2012-07-11 |
dc.date.accessioned.fl_str_mv |
2021-01-05T18:30:16Z |
dc.type.status.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/masterThesis |
format |
masterThesis |
status_str |
publishedVersion |
dc.identifier.citation.fl_str_mv |
LIMA, Daniel Frota. Análise de cobertura de metal-metal por XRF. 2011. 57 f. Dissertação (Mestrado em Materiais não-metálicos; Física e mecânica dos materiais) - Universidade do Estado do Rio de Janeiro, Nova Friburgo, 2011. |
dc.identifier.uri.fl_str_mv |
http://www.bdtd.uerj.br/handle/1/7997 |
identifier_str_mv |
LIMA, Daniel Frota. Análise de cobertura de metal-metal por XRF. 2011. 57 f. Dissertação (Mestrado em Materiais não-metálicos; Física e mecânica dos materiais) - Universidade do Estado do Rio de Janeiro, Nova Friburgo, 2011. |
url |
http://www.bdtd.uerj.br/handle/1/7997 |
dc.language.iso.fl_str_mv |
por |
language |
por |
dc.rights.driver.fl_str_mv |
info:eu-repo/semantics/openAccess |
eu_rights_str_mv |
openAccess |
dc.format.none.fl_str_mv |
application/pdf |
dc.publisher.none.fl_str_mv |
Universidade do Estado do Rio de Janeiro |
dc.publisher.program.fl_str_mv |
Programa de Pós-Graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais |
dc.publisher.initials.fl_str_mv |
UERJ |
dc.publisher.country.fl_str_mv |
BR |
dc.publisher.department.fl_str_mv |
Centro de Tecnologia e Ciências::Instituto Politécnico |
publisher.none.fl_str_mv |
Universidade do Estado do Rio de Janeiro |
dc.source.none.fl_str_mv |
reponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ instname:Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ) instacron:UERJ |
instname_str |
Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ) |
instacron_str |
UERJ |
institution |
UERJ |
reponame_str |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ |
collection |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ |
bitstream.url.fl_str_mv |
http://www.bdtd.uerj.br/bitstream/1/7997/1/Dissertacao+Daniel+Frota+Lima.pdf |
bitstream.checksum.fl_str_mv |
33adb0c2320cdad617e77f4760784d78 |
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv |
MD5 |
repository.name.fl_str_mv |
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UERJ - Universidade do Estado do Rio de Janeiro (UERJ) |
repository.mail.fl_str_mv |
bdtd.suporte@uerj.br |
_version_ |
1811728632622612480 |