Estudos computacionais do crescimento de superfícies e filmes finos por deposição de partículas nanométricas

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Deane Alves de Souza
Data de Publicação: 2014
Tipo de documento: Relatório
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFAM
Texto Completo: http://riu.ufam.edu.br/handle/prefix/3777
Resumo: Neste projeto propomos investigar os aspectos dinâmicos do processo de crescimento de superfícies, especialmente aqueles relacionados com a eletrodeposição química, nos chamados modelos de crescimento aleatório e balístico ou combinação de ambos. Nestes casos, procuramos determinar leis de escala gerais que envolvam os parâmetros apropriados, como a dimensão espacial, comprimentos de correlação característicos e o tempo. Em função dos parâmetros estudados, iremos classificar o modelo dentre as classes de universalidade conhecidas.
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