Modificações no modelo de deposição balística para aplicação em esferas discretizadas
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2021 |
Tipo de documento: | Trabalho de conclusão de curso |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
Texto Completo: | https://app.uff.br/riuff/handle/1/23665 |
Resumo: | O modelo de deposição balística foi proposto há mais de 60 anos para a formação de rochas sedimentares. Variações desse modelo podem ser estendidas para diversos contextos, incluindo a deposição de filmes finos. Neste trabalho, uma adaptação do modelo de deposição balística e aplicada para a formação de filmes finos de nanopartículas com forma de esferas discretizas. Foram medidas a densidade e a rugosidade dos filmes com até 5 camadas de nanopartículas, em substratos de tamanho lateral 1024. Este trabalho é o primeiro passo para modelar a fase de nanopartículas de tântalo em filmes híbridos com silício, produzidos por Haro et al.[1] para anodos de baterias a base de íons de lítio. |
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Modificações no modelo de deposição balística para aplicação em esferas discretizadasDeposição balísticaEsferas discretizadasSputteringNanopartículasMecânica EstatísticaDeposição de filmes finosProdução intelectualBalistic depositionDiscretized spheresSputteringNanoparticlesO modelo de deposição balística foi proposto há mais de 60 anos para a formação de rochas sedimentares. Variações desse modelo podem ser estendidas para diversos contextos, incluindo a deposição de filmes finos. Neste trabalho, uma adaptação do modelo de deposição balística e aplicada para a formação de filmes finos de nanopartículas com forma de esferas discretizas. Foram medidas a densidade e a rugosidade dos filmes com até 5 camadas de nanopartículas, em substratos de tamanho lateral 1024. Este trabalho é o primeiro passo para modelar a fase de nanopartículas de tântalo em filmes híbridos com silício, produzidos por Haro et al.[1] para anodos de baterias a base de íons de lítio.Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e TecnológicoThe balistic deposition model was proposed over 60 years ago for the formation of sedimentary rocks. Variations of this model are applied in diferent fields, including thin film deposition. In this work, an extension of balistic deposition is used to model growth of thin nanoparticulate films, in which the nanoparticles have the shape of discretized spheres. Density and roughness of films with up to 5 layers of nanoparticles were measured on substrate of lateral size 1024. This work is the first step to model the tantalum nanoparticle deposition in hibrid materials containing silicon [1], which were designed for lithium-ion battery anodes.Universidade Feral FluminenseNiteróiReis, Fabio David Alves de AarãoReis, Fabio David Alves de AarãoChame, Anna Maria NóbregaPereira, Rodrigo MirandaLicha, Andrés Fernando Cardozo2021-11-12T19:42:01Z2021-11-12T19:42:01Z2021info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisapplication/pdfLicha, Andrés Fernando Cardozo. Modificações no modelo de deposição balística para aplicação em esferas discretizadas. 2021. 28f. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Física) - Instituto de Física, Universidade Federal Fluminense, 2021.https://app.uff.br/riuff/handle/1/23665Aluno de Graduaçãohttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/CC-BY-SAinfo:eu-repo/semantics/openAccessporreponame:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF)instname:Universidade Federal Fluminense (UFF)instacron:UFF2021-11-12T19:42:01Zoai:app.uff.br:1/23665Repositório InstitucionalPUBhttps://app.uff.br/oai/requestriuff@id.uff.bropendoar:21202024-08-19T11:04:00.768703Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) - Universidade Federal Fluminense (UFF)false |
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