Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVD
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2017 |
Tipo de documento: | Trabalho de conclusão de curso |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) |
Texto Completo: | https://app.uff.br/riuff/handle/1/7064 |
Resumo: | Esta monografia tem o objetivo de descrever o desenvolvimento do aparato para aquecimento de substrato, objetivando a deposição de grafeno com poucas camadas. A aplicação de grafeno em dispositivos tem atraído a atenção de diversas áreas de pesquisa devido às fascinantes propriedades deste material, como flexibilidade, resistência mecânica, alta condutividade, entre outras. O aquecimento a baixa temperatura do substrato visa eliminar a necessidade do processo de transferência para outros substratos. Foi descrito também a técnica de caracterização utilizada de Espectroscopia Raman. Os resultados indicaram que à pressão constante, os parâmetros temperatura e tempo de crescimento foram fundamentais para a síntese. Utilizando a técnica Raman, foi possível analisar e identificar as bandas G e 2D nas amostras produzidas que apresentaram características de poucas camadas de carbono, alcançando o objetivo deste trabalho |
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Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVDGrafenoBaixa temperaturaPECVDRamanAquecimentoGrafenoBaixa temperaturaPECVDAquecimentoGraphenePECVDTemperatureRamanHeatingEsta monografia tem o objetivo de descrever o desenvolvimento do aparato para aquecimento de substrato, objetivando a deposição de grafeno com poucas camadas. A aplicação de grafeno em dispositivos tem atraído a atenção de diversas áreas de pesquisa devido às fascinantes propriedades deste material, como flexibilidade, resistência mecânica, alta condutividade, entre outras. O aquecimento a baixa temperatura do substrato visa eliminar a necessidade do processo de transferência para outros substratos. Foi descrito também a técnica de caracterização utilizada de Espectroscopia Raman. Os resultados indicaram que à pressão constante, os parâmetros temperatura e tempo de crescimento foram fundamentais para a síntese. Utilizando a técnica Raman, foi possível analisar e identificar as bandas G e 2D nas amostras produzidas que apresentaram características de poucas camadas de carbono, alcançando o objetivo deste trabalhoThis monograph aims to describe the development of the apparatus for substrate heating, aiming the deposition of graphene with few layers. The application of graphene to devices has attracted the attention of several research areas due to the fascinating properties of this material, like flexibility, mechanical resistance, high conductivity, among others. Low temperature heating of the substrate aims to eliminate the need for the transfer process to other substrates. It was also described the characterization technique used of Raman Spectroscopy. The results indicated that at constant pressure, the parameters temperature and growth time were fundamental for the synthesis. Using the Raman technique, it was possible to analyze and identify the G and 2D bands in the samples produced that presented characteristics of few layers of carbon, reaching the objective of this workFranceschini Filho, Dante FerreiraPerez, GeronimoXing, YutaoLidizio, Leandro Reis2018-07-19T19:39:57Z2018-07-19T19:39:57Z2017info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisapplication/pdfLIDIZIO, Leandro Reis. Desenvolvimento de aparato para aquecimento de substrato para a produção e caracterização de grafeno de poucas camadas a baixa temperatura em PECVD. 2017. 24f. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Física) - Instituto de Física, Universidade Federal Fluminense, 2017.https://app.uff.br/riuff/handle/1/7064http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/br/CC-BY-SAinfo:eu-repo/semantics/openAccessporreponame:Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF)instname:Universidade Federal Fluminense (UFF)instacron:UFF2021-10-14T15:51:37Zoai:app.uff.br:1/7064Repositório InstitucionalPUBhttps://app.uff.br/oai/requestriuff@id.uff.bropendoar:21202021-10-14T15:51:37Repositório Institucional da Universidade Federal Fluminense (RIUFF) - Universidade Federal Fluminense (UFF)false |
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