Projeto e montagem de um reator para produção de grafeno

• Autor(a) principal: Feijó, Tais Orestes
• Data de Publicação: 2014
• Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
• Idioma: por
• Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
• Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/109788
• topic: Espectroscopia Raman; Deposição de vapor químico; Propriedades físicas; Grafeno; Graphene; Chemical vapor deposition; Raman spectroscopy

Neste trabalho foi desenvolvido o projeto e montagem de um reator para produção de grafeno pela técnica de CVD em amostras de cobre. Para isso, foram montadas três partes essenciais para o sistema: o sistema de liberação de precursores, a câmara de reação e o sistema de exaustão. Após foram realizados alguns procedimentos para testar o sistema e garantir o funcionamento do mesmo, como calibração da temperatura do forno e do fluxo de gases e teste de redução de pressão. Para a tentativa de produção de grafeno, foram usadas amostras de fita de cobre de alta pureza (99,9%) tratadas termicamente em fluxo constante de hidrogênio e metano, onde se manteve a temperatura de tratamento em 1000°C, o tempo de tratamento de 30min e variou-se o fluxo de metano. As amostras foram analisadas com a técnica de Espectroscopia Raman. Foram obtidas amostras com cobertura parcial de grafeno, necessitando-se assim otimizar os parâmetros experimentais.