Deposição e caracterização de filmes finos metálicos

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Alexandre, Jéssica
Data de Publicação: 2012
Tipo de documento: Trabalho de conclusão de curso
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRGS
Texto Completo: http://hdl.handle.net/10183/142943
Resumo: Este trabalho de conclusão de curso tem o objetivo de estudar o crescimento de filmes metálicos ultrafinos. Foram depositados filmes de prata (Ag) e cobre (Cu) sobre substratos de silício e vidro pelo método de deposição por Pulverização Catódica (Sputtering). As propriedades ópticas, estruturais e morfológicas dos filmes foram investigadas através das técnicas de Espectroscopia de Absorção no Ultravioleta-Visível (UV-Vis), Difração de Raios-X (DRX) e Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). As espessuras dos filmes foram determinadas pela técnica de Perfilometria. Como resultado, foi possível determinar as taxas de crescimento dos filmes em função dos parâmetros de deposição, e estabelecer um procedimento para a obtenção da espessura de um filme a partir da sua Transmitância.
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