Otimização do sistema óptico da linha de microfeixe de íons do Laboratório de Implantação Iônica da UFRGS
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2015 |
Tipo de documento: | Trabalho de conclusão de curso |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UFRGS |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/10183/132010 |
Resumo: | Este trabalho de conclusão de curso foi desenvolvido com o objetivo de otimizar a linha de microfeixe de íons existente no Laboratório de Implantação Iônica da UFRGS. O microfeixe de íons consiste de um feixe de prótons focalizado e da ordem de alguns micrômetros. O sistema de microfeixe consiste em duas fendas responsáveis pela demagnificação do feixe, um sistema de varredura, um de focalização e uma câmara de irradiação. O trabalho consiste em otimizar o sistema óptico do microfeixe de íons, por via da modificação dos parâmetros que compõem o sistema de demagnificação. Para atingir tal fim, amostras de poli(tereftalato de etileno) foram irradias com íons H+ de 2.2 MeV de energia e em seguida submergidas em uma solução corrosiva. Após esse processo de irradiação e ataque químico, microestruturas são evidenciadas em 2D com alta razão de aspecto e observadas por microscopia eletrônica de varredura. A análise das amostras pela técnica de microscopia eletrônica de varredura permite correlacionar o tamanho das microestruturas com as aberturas do sistema de demagnificação e focalização do microfeixe. São descritos, nesse trabalho, as causas que regem o alargamento do feixe e os complexos efeitos de aberração, problemas tais como vibrações mecânicas em torno da câmara de irradiação e desalinhamentos dos quadrupolos do sistema de focalização. São discutidas as vantagens de um feixe de íons em um processo de litografia e a dependência dos parâmetros associados a alta razão de aspecto no processo de demagnificação de um feixe altamente energético. |
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Bauer, Deiverti de VilaDias, Johnny FerrazSouza, Cláudia Telles de2016-01-20T02:39:51Z2015http://hdl.handle.net/10183/132010000982918Este trabalho de conclusão de curso foi desenvolvido com o objetivo de otimizar a linha de microfeixe de íons existente no Laboratório de Implantação Iônica da UFRGS. O microfeixe de íons consiste de um feixe de prótons focalizado e da ordem de alguns micrômetros. O sistema de microfeixe consiste em duas fendas responsáveis pela demagnificação do feixe, um sistema de varredura, um de focalização e uma câmara de irradiação. O trabalho consiste em otimizar o sistema óptico do microfeixe de íons, por via da modificação dos parâmetros que compõem o sistema de demagnificação. Para atingir tal fim, amostras de poli(tereftalato de etileno) foram irradias com íons H+ de 2.2 MeV de energia e em seguida submergidas em uma solução corrosiva. Após esse processo de irradiação e ataque químico, microestruturas são evidenciadas em 2D com alta razão de aspecto e observadas por microscopia eletrônica de varredura. A análise das amostras pela técnica de microscopia eletrônica de varredura permite correlacionar o tamanho das microestruturas com as aberturas do sistema de demagnificação e focalização do microfeixe. São descritos, nesse trabalho, as causas que regem o alargamento do feixe e os complexos efeitos de aberração, problemas tais como vibrações mecânicas em torno da câmara de irradiação e desalinhamentos dos quadrupolos do sistema de focalização. São discutidas as vantagens de um feixe de íons em um processo de litografia e a dependência dos parâmetros associados a alta razão de aspecto no processo de demagnificação de um feixe altamente energético.The aim of the present work is to optimize the microprobe beamline of the Ion Implantation Laboratory (IF-UFRGS). In short, an ion microprobe consists of charged particles focused to the dimensions of a few micrometers. The focusing system is made of two slits for demagnification, a set of magnetic lenses with scanning capability and a reaction chamber. By changing the parameters related to this system, one can optimize the features of the beam. To that end, samples of poly(tereftalate etylene) were irradiated with 2.2 MeV H+ ions and etched, yielding 2D microstructures with high aspect ratio. The analysis of the structures with Scanning Electron Microscopy proved to be an important tool in order to establish a correlation between the size of the microstructures and the parameters of the focusing system. In this work, the causes leading to a beam enlargement are discussed, as well as the aberrations which affect the system. Finally, the advantages of using ions for lithography purposes is pointed out.application/pdfporAceleradores de partículasFeixes de íonsMicroscopia eletrônica de varreduraOtimização do sistema óptico da linha de microfeixe de íons do Laboratório de Implantação Iônica da UFRGSinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisUniversidade Federal do Rio Grande do SulInstituto de FísicaPorto Alegre, BR-RS2015Pesquisa Básica: Bachareladograduaçãoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRGSinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)instacron:UFRGSORIGINAL000982918.pdf000982918.pdfTexto completoapplication/pdf1655053http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/132010/1/000982918.pdfb5e516cb4b4e6a25b3cd76a2ec1e315bMD51TEXT000982918.pdf.txt000982918.pdf.txtExtracted Texttext/plain63570http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/132010/2/000982918.pdf.txt1b99977f898843a2ea6045e82a7cdd30MD52THUMBNAIL000982918.pdf.jpg000982918.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1043http://www.lume.ufrgs.br/bitstream/10183/132010/3/000982918.pdf.jpg618a5f3a0a6ff64399e08db279edd691MD5310183/1320102018-10-25 10:20:44.302oai:www.lume.ufrgs.br:10183/132010Repositório de PublicaçõesPUBhttps://lume.ufrgs.br/oai/requestopendoar:2018-10-25T13:20:44Repositório Institucional da UFRGS - Universidade Federal do Rio Grande do Sul (UFRGS)false |
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