Modificação da adesividade de fibras de p-aramida através de tratamento superficial por plasma
Autor(a) principal: | |
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Data de Publicação: | 2011 |
Tipo de documento: | Trabalho de conclusão de curso |
Idioma: | por |
Título da fonte: | Repositório Institucional da UFRJ |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/11422/8904 |
Resumo: | Neste trabalho, tratamento superficial por plasma em temperatura ambiente foi utilizado para tratar fibras de p-aramida. O principal objetivo foi melhorar as propriedades adesivas das fibras à resina epóxi, através de modificações químicas e físicas da superfície.Quatro diferentes potências de radiofrequência (RF) foram utilizadas: 45, 60, 75 e 90 W, com intervalo de tratamento de 15 min. Após tratamento, a fibra foi analisada por Microscopia Eletrônica de Varredura (SEM) e as propriedades mecânicas e a adesividade foram avaliadas por ensaio de tração. Os resultados mostraram que o aumento da potência teve influência na resistência à fratura, causando uma menor alteração do módulo de Young e da deformação máxima. Estes resultados mostraram uma melhoria da adesividade pelo tratamento por plasma. |
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Silva, Samuel Victorino Oliveira daBastian, Fernando LuizCosta, Marcia Parente Melo daCastrodeza, Enrique MarianoSimão, Renata Antoun2019-07-30T13:58:48Z2023-11-30T03:01:07Z2011-08http://hdl.handle.net/11422/8904Submitted by Moreno Barros (moreno@ct.ufrj.br) on 2019-05-24T15:26:41Z No. of bitstreams: 1 monopoli10004400.pdf: 10691325 bytes, checksum: f9ee79f2597d7624591f4ce693bc9342 (MD5)Approved for entry into archive by Moreno Barros (moreno@ct.ufrj.br) on 2019-07-30T13:58:48Z (GMT) No. of bitstreams: 1 monopoli10004400.pdf: 10691325 bytes, checksum: f9ee79f2597d7624591f4ce693bc9342 (MD5)Made available in DSpace on 2019-07-30T13:58:48Z (GMT). No. of bitstreams: 1 monopoli10004400.pdf: 10691325 bytes, checksum: f9ee79f2597d7624591f4ce693bc9342 (MD5) Previous issue date: 2011-08Neste trabalho, tratamento superficial por plasma em temperatura ambiente foi utilizado para tratar fibras de p-aramida. O principal objetivo foi melhorar as propriedades adesivas das fibras à resina epóxi, através de modificações químicas e físicas da superfície.Quatro diferentes potências de radiofrequência (RF) foram utilizadas: 45, 60, 75 e 90 W, com intervalo de tratamento de 15 min. Após tratamento, a fibra foi analisada por Microscopia Eletrônica de Varredura (SEM) e as propriedades mecânicas e a adesividade foram avaliadas por ensaio de tração. Os resultados mostraram que o aumento da potência teve influência na resistência à fratura, causando uma menor alteração do módulo de Young e da deformação máxima. Estes resultados mostraram uma melhoria da adesividade pelo tratamento por plasma.porUniversidade Federal do Rio de JaneiroUFRJBrasilEscola PolitécnicaCNPQ::ENGENHARIASTratamento Superficial Por Plasmap-aramidaEpóxiModificação da adesividade de fibras de p-aramida através de tratamento superficial por plasmainfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisabertoinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRJinstname:Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)instacron:UFRJORIGINALmonopoli10004400.pdfmonopoli10004400.pdfapplication/pdf10691325http://pantheon.ufrj.br:80/bitstream/11422/8904/1/monopoli10004400.pdff9ee79f2597d7624591f4ce693bc9342MD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81853http://pantheon.ufrj.br:80/bitstream/11422/8904/2/license.txtdd32849f2bfb22da963c3aac6e26e255MD5211422/89042023-11-30 00:01:07.265oai:pantheon.ufrj.br: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Repositório de PublicaçõesPUBhttp://www.pantheon.ufrj.br/oai/requestopendoar:2023-11-30T03:01:07Repositório Institucional da UFRJ - Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)false |
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