Dispositivo de localização bidimensional sobre uma superfície resistiva, utilizando uma ponderação de corrente
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Data de Publicação: | 1988 |
Outros Autores: | , , , |
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Título da fonte: | Repositório Institucional da UFRJ |
Texto Completo: | http://hdl.handle.net/11422/1124 |
Resumo: | Em 24/11/1992: Art 18, Parág. 2º do CPI. Em 24/04/1990: Pedido publicado. |
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Dispositivo de localização bidimensional sobre uma superfície resistiva, utilizando uma ponderação de correnteLocalizador bidimensionalPonderação de correnteCNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA ELETRICA::MEDIDAS ELETRICAS, MAGNETICAS E ELETRONICAS, INSTRUMENTACAO::SISTEMAS ELETRONICOS DE MEDIDA E DE CONTROLEEm 24/11/1992: Art 18, Parág. 2º do CPI. Em 24/04/1990: Pedido publicado.Não concedidaPatente de invenção “Dispositivo de localização bidimensional sobre uma superfície resistiva, utilizando uma ponderação de correntes”. A presente invenção refere-se a um dispositivo destinado a localizar eventos elétricos gerados sore uma superfície resistiva através da combinação linear de correntes captadas por eletrodos sendo aterrados por pré-amplificadores realimentados, fornecendo uma imagem sem distorções da fonte excitadora.BrasilInstituto Alberto Luiz Coimbra de Pós-Graduação e Pesquisa de EngenhariaInstituto de FísicaUniversidade Federal do Rio de JaneiroCaloba, Luiz PereiraSouza, Marcio Nogueira deMaréchal, BernardBruere-Dawson, RogerFroissart, Marcel2016-11-28T14:14:47Z2023-12-21T03:03:02Z1990-04-241988-09-02info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/otherhttp://hdl.handle.net/11422/1124PI 8804509-9 A2porinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:Repositório Institucional da UFRJinstname:Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)instacron:UFRJ2023-12-21T03:03:02Zoai:pantheon.ufrj.br:11422/1124Repositório InstitucionalPUBhttp://www.pantheon.ufrj.br/oai/requestpantheon@sibi.ufrj.bropendoar:2023-12-21T03:03:02Repositório Institucional da UFRJ - Universidade Federal do Rio de Janeiro (UFRJ)false |
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