Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Silva, Bruno Felipe Costa da
Data de Publicação: 2015
Outros Autores: Santos, Edson José da Costa, Almeida, Edalmy Oliveira de, Guerra, Paulo Victor de Azevedo, Hékis, Hélio Roberto, Coutinho, Karilany Dantas, Alves Júnior, Clodomiro, Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: Repositório Institucional da UFRN
Texto Completo: https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29544
Resumo: O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio
id UFRN_f910e5160d8b62416a22735370ad5975
oai_identifier_str oai:https://repositorio.ufrn.br:123456789/29544
network_acronym_str UFRN
network_name_str Repositório Institucional da UFRN
repository_id_str
spelling Silva, Bruno Felipe Costa daSantos, Edson José da CostaAlmeida, Edalmy Oliveira deGuerra, Paulo Victor de AzevedoHékis, Hélio RobertoCoutinho, Karilany DantasAlves Júnior, ClodomiroGuerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito2020-07-10T18:08:41Z2020-07-10T18:08:41Z2015SILVA, B. F. C.; SANTOS, E. J. C.; ALMEIDA, E.O. ; GUERRA, P.V.A.; HEKIS, H. R.; COUTINHO, K. D.; ALVES JUNIOR, C.; GUERRA NETO, C. L. B.. Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 5, p. 1, 2015. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/7253. Acesso em: 10 jul. 2020. https://doi.org/10.18816/r-bits.v5i2.72532236-1103https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/2954410.18816/r-bits.v5i2.7253O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênioPlasma DC hollow cathode has been used for the deposition of thin films by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. Hollow-cathode plasma of Ar-H2 currently used in the industry has proven to be more efficient in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we wish to avoid the effects of ion bombardment of the substrate using discharge to post-discharge region. Were generated by discharge plasma of argon and hydrogen in hollow cathode deposition of thin films of titanium on glass substrate. The optical emission spectroscopy was used for diagnosis in post-discharge and the films formed were analyzed using the technique of mechanical profilometry. A variation in the rate of deposition of titanium on the glass substrate for different process parameters, the deposition time, the discharge distance, and working gases. There was an increase in the relative intensity of the species of argon with the introduction of hydrogen gas.Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em SaúdePós-descargaEspectroscopia de emissão ópticaEspectrometria de massa quadrupolarEstudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo ocoStudy of deposition of thin films in plasmas Ar/Ar-H2 in regions of hollow cathode post-dischargeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/articleporreponame:Repositório Institucional da UFRNinstname:Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)instacron:UFRNinfo:eu-repo/semantics/openAccessORIGINALEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdfEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdfapplication/pdf305363https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/1/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf82c71e0d5a1662879393f689872bc24aMD51LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81484https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/2/license.txte9597aa2854d128fd968be5edc8a28d9MD52TEXTEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.txtEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.txtExtracted texttext/plain22538https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/3/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.txtc1e56ed6e1fa1f1358367804ab2cbc1dMD53THUMBNAILEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.jpgEstudoDeDeposiçãoDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.jpgGenerated Thumbnailimage/jpeg1702https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/4/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.jpg4e3108089f839687f333a45c46c3e908MD54123456789/295442020-07-12 04:49:39.765oai:https://repositorio.ufrn.br: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Repositório de PublicaçõesPUBhttp://repositorio.ufrn.br/oai/opendoar:2020-07-12T07:49:39Repositório Institucional da UFRN - Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)false
dc.title.pt_BR.fl_str_mv Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
dc.title.alternative.pt_BR.fl_str_mv Study of deposition of thin films in plasmas Ar/Ar-H2 in regions of hollow cathode post-discharge
title Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
spellingShingle Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
Silva, Bruno Felipe Costa da
Pós-descarga
Espectroscopia de emissão óptica
Espectrometria de massa quadrupolar
title_short Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
title_full Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
title_fullStr Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
title_full_unstemmed Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
title_sort Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
author Silva, Bruno Felipe Costa da
author_facet Silva, Bruno Felipe Costa da
Santos, Edson José da Costa
Almeida, Edalmy Oliveira de
Guerra, Paulo Victor de Azevedo
Hékis, Hélio Roberto
Coutinho, Karilany Dantas
Alves Júnior, Clodomiro
Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito
author_role author
author2 Santos, Edson José da Costa
Almeida, Edalmy Oliveira de
Guerra, Paulo Victor de Azevedo
Hékis, Hélio Roberto
Coutinho, Karilany Dantas
Alves Júnior, Clodomiro
Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito
author2_role author
author
author
author
author
author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Silva, Bruno Felipe Costa da
Santos, Edson José da Costa
Almeida, Edalmy Oliveira de
Guerra, Paulo Victor de Azevedo
Hékis, Hélio Roberto
Coutinho, Karilany Dantas
Alves Júnior, Clodomiro
Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito
dc.subject.por.fl_str_mv Pós-descarga
Espectroscopia de emissão óptica
Espectrometria de massa quadrupolar
topic Pós-descarga
Espectroscopia de emissão óptica
Espectrometria de massa quadrupolar
description O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio
publishDate 2015
dc.date.issued.fl_str_mv 2015
dc.date.accessioned.fl_str_mv 2020-07-10T18:08:41Z
dc.date.available.fl_str_mv 2020-07-10T18:08:41Z
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.citation.fl_str_mv SILVA, B. F. C.; SANTOS, E. J. C.; ALMEIDA, E.O. ; GUERRA, P.V.A.; HEKIS, H. R.; COUTINHO, K. D.; ALVES JUNIOR, C.; GUERRA NETO, C. L. B.. Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 5, p. 1, 2015. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/7253. Acesso em: 10 jul. 2020. https://doi.org/10.18816/r-bits.v5i2.7253
dc.identifier.uri.fl_str_mv https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29544
dc.identifier.issn.none.fl_str_mv 2236-1103
dc.identifier.doi.none.fl_str_mv 10.18816/r-bits.v5i2.7253
identifier_str_mv SILVA, B. F. C.; SANTOS, E. J. C.; ALMEIDA, E.O. ; GUERRA, P.V.A.; HEKIS, H. R.; COUTINHO, K. D.; ALVES JUNIOR, C.; GUERRA NETO, C. L. B.. Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 5, p. 1, 2015. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/7253. Acesso em: 10 jul. 2020. https://doi.org/10.18816/r-bits.v5i2.7253
2236-1103
10.18816/r-bits.v5i2.7253
url https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29544
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.publisher.none.fl_str_mv Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em Saúde
publisher.none.fl_str_mv Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em Saúde
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Repositório Institucional da UFRN
instname:Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)
instacron:UFRN
instname_str Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)
instacron_str UFRN
institution UFRN
reponame_str Repositório Institucional da UFRN
collection Repositório Institucional da UFRN
bitstream.url.fl_str_mv https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/1/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf
https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/2/license.txt
https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/3/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.txt
https://repositorio.ufrn.br/bitstream/123456789/29544/4/EstudoDeDeposi%c3%a7%c3%a3oDeFilmes_GuerraNeto_2015.pdf.jpg
bitstream.checksum.fl_str_mv 82c71e0d5a1662879393f689872bc24a
e9597aa2854d128fd968be5edc8a28d9
c1e56ed6e1fa1f1358367804ab2cbc1d
4e3108089f839687f333a45c46c3e908
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositório Institucional da UFRN - Universidade Federal do Rio Grande do Norte (UFRN)
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1814833058294005760

Registros relacionados