Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Domingos, Nathalia Bastos
Data de Publicação: 2017
Outros Autores: Morais, Camila Raissa Rodrigues de, Nicacio, José Vitor, Tôrres, André Gomes
Tipo de documento: Artigo
Idioma: por
Título da fonte: LOCUS Repositório Institucional da UFV
Texto Completo: https://doi.org/10.18540/2446941603032017476
http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849
Resumo: O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas.
id UFV_cde26802512d91f8879a806e68d2bbd0
oai_identifier_str oai:locus.ufv.br:123456789/13849
network_acronym_str UFV
network_name_str LOCUS Repositório Institucional da UFV
repository_id_str 2145
spelling Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte BProcessos químicosControlador PIEstabilidadeO controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas.The Journal of Engineering and Exact Sciences2017-11-28T09:49:05Z2017-11-28T09:49:05Z2017-03-03info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/articlepdfapplication/pdf25271075https://doi.org/10.18540/2446941603032017476http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849porv. 03, n. 03, p. 476-498, Março 2017Domingos, Nathalia BastosMorais, Camila Raissa Rodrigues deNicacio, José VitorTôrres, André Gomesinfo:eu-repo/semantics/openAccessreponame:LOCUS Repositório Institucional da UFVinstname:Universidade Federal de Viçosa (UFV)instacron:UFV2024-07-12T06:36:02Zoai:locus.ufv.br:123456789/13849Repositório InstitucionalPUBhttps://www.locus.ufv.br/oai/requestfabiojreis@ufv.bropendoar:21452024-07-12T06:36:02LOCUS Repositório Institucional da UFV - Universidade Federal de Viçosa (UFV)false
dc.title.none.fl_str_mv Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
title Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
spellingShingle Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
Domingos, Nathalia Bastos
Processos químicos
Controlador PI
Estabilidade
title_short Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
title_full Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
title_fullStr Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
title_full_unstemmed Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
title_sort Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
author Domingos, Nathalia Bastos
author_facet Domingos, Nathalia Bastos
Morais, Camila Raissa Rodrigues de
Nicacio, José Vitor
Tôrres, André Gomes
author_role author
author2 Morais, Camila Raissa Rodrigues de
Nicacio, José Vitor
Tôrres, André Gomes
author2_role author
author
author
dc.contributor.author.fl_str_mv Domingos, Nathalia Bastos
Morais, Camila Raissa Rodrigues de
Nicacio, José Vitor
Tôrres, André Gomes
dc.subject.por.fl_str_mv Processos químicos
Controlador PI
Estabilidade
topic Processos químicos
Controlador PI
Estabilidade
description O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas.
publishDate 2017
dc.date.none.fl_str_mv 2017-11-28T09:49:05Z
2017-11-28T09:49:05Z
2017-03-03
dc.type.status.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.type.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/article
format article
status_str publishedVersion
dc.identifier.uri.fl_str_mv 25271075
https://doi.org/10.18540/2446941603032017476
http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849
identifier_str_mv 25271075
url https://doi.org/10.18540/2446941603032017476
http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849
dc.language.iso.fl_str_mv por
language por
dc.relation.none.fl_str_mv v. 03, n. 03, p. 476-498, Março 2017
dc.rights.driver.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv pdf
application/pdf
dc.publisher.none.fl_str_mv The Journal of Engineering and Exact Sciences
publisher.none.fl_str_mv The Journal of Engineering and Exact Sciences
dc.source.none.fl_str_mv reponame:LOCUS Repositório Institucional da UFV
instname:Universidade Federal de Viçosa (UFV)
instacron:UFV
instname_str Universidade Federal de Viçosa (UFV)
instacron_str UFV
institution UFV
reponame_str LOCUS Repositório Institucional da UFV
collection LOCUS Repositório Institucional da UFV
repository.name.fl_str_mv LOCUS Repositório Institucional da UFV - Universidade Federal de Viçosa (UFV)
repository.mail.fl_str_mv fabiojreis@ufv.br
_version_ 1822610564043505664