Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Detalhes bibliográficos
Autor(a) principal: Gregolin, Jose Angelo Rodrigues
Data de Publicação: 1979
Tipo de documento: Dissertação
Idioma: por
Título da fonte: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)
Texto Completo: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580179
Resumo: Orientador : Mauricio Prates de Campos Filho
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spelling Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilanoSilício - Propriedades elétricasSilício - ReatividadeOrientador : Mauricio Prates de Campos FilhoDissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de CampinasResumo: Este trabalho apresenta a pesquisa realizada durante 1977 a 1979, do processo de deposição de Silício policristalino a partir de Triclorosilano e Hidrogênio. Este processo se constitui numa das etapas fundamentais da moderna tecnologia de produção do Silício com pureza de grau eletrônico. A análise experimental do processo envolveu o projeto e construção dos equipamentos para permitir a deposição de Si e simultaneamente investigar a influência de diversos parâmetros, como a temperatura e composição dos gases sobre o processo de deposição. Pode-se salientar os seguintes componentes do sistema experimental utilizado...Observação: O resumo, na integra, podera ser visualizado no texto completo da tese digitalAbstract: The present report covers work carried out from 1977 to 1979 on the deposition of policrystalline Silicon by reduction of Trichlorosilane (SiHC13). This process represents one of the fundamentals steps in modern Silicon technology towards producing electronic grade, i.e. high purity Silicon. Experimental equipment was designed and constructed to deposit Si from SiHCl3 and simultaneously to analyse the influence upon deposition of such parameters as temperature and gas composition. Among the components of the equipment one can distinguish between ...Note: The complete abstract is available with the full electronic digital thesis or dissertationsMestradoMestre em Engenharia Mecânica[s.n.]Campos Filho, Maurício Prates de, 1938-2014Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia de CampinasPrograma de Pós-Graduação em Engenharia MecânicaUNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINASGregolin, Jose Angelo Rodrigues1979info:eu-repo/semantics/publishedVersioninfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdf204 f. : il.https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580179GREGOLIN, Jose Angelo Rodrigues. Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano. 1979. 204 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: https://hdl.handle.net/20.500.12733/1580179. Acesso em: 2 set. 2024.https://repositorio.unicamp.br/acervo/detalhe/59448porreponame:Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instname:Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)instacron:UNICAMPinfo:eu-repo/semantics/openAccess2017-02-18T02:09:57Zoai::59448Biblioteca Digital de Teses e DissertaçõesPUBhttp://repositorio.unicamp.br/oai/tese/oai.aspsbubd@unicamp.bropendoar:2017-02-18T02:09:57Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP)false
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